Calibre EUV

EUV, ili Ektreme Ultraviolet, litografija je tehnologija koja koristi veoma malu talasnu dužinu svetlosti (13,5 nm) za štampanje slika na silikonskim pločama. Potreban je jer mala talasna dužina EUV-a, koja je manja od veličine funkcije, čini štampanje mnogo lakšim i neophodna je za postizanje rezolucije uzoraka za čvorove napredne proizvodne tehnologije poput 5nm, 3nm i više.

Calibre modelira sve jedinstvene EUV optičke efekte kao što je bljeskalica, koja uključuje efekte kratkog i dugog dometa. Calibre podržava generisanje dinamičkog modela za metodu dekompozicije domena kako bi se omogućilo kontinuirano modeliranje azimutalnog ugla, aberacija, apodizacije i varijacije izvora kroz prorez bez gubitka tačnosti. Efekti 3D maske kao što je efekat senčenja izazvan debelim apsorberom maske i osvetljenje van ose, koje varira po prorezu, mogu se tačno kompenzirati. Calibre takođe modelira efekat crne ivice kako bi eliminisao njegov uticaj na snimanje putem OPC-a. Kalibar je takođe pripremljen za High NA EUV. Calibre je opremljen novim karakteristikama i funkcionalnostima za podršku anamorfnoj optici od modeliranja do OPC-a.

SRAF-ovi su verovatno uslov za 5nm čvor i niže u EUV litografiji. SRAF-ovi imaju pozitivan uticaj na nagib dnevnika slike (ILS) čime se smanjuje hrapavost ivica linije (LER) i povećava dubinu fokusa (DOF). Zbog EUV-ovog osvetljenja van ose i različitih efekata senčenja kroz podelu, asimetrični SRAF-ovi mogu biti potrebni i u horizontalnom i vertikalnom pravcu, a različiti SRAF-ovi mogu biti potrebni na različitim mestima proreza.

Calibreovo SRAF rešenje može koristiti EUV modele za postavljanje SRAF -a. Calibre pxOPC može generisati asimetrične SRAF-ove i može se prilagoditi ciljanim DOF, ILS ili mešavini ciljeva. Calibre nmSRAF može da generiše SRAF-ove zasnovane na pravilima koristeći PkSOpc rezultate kao šablon i može postaviti SRAF-ove asimetrično. Calibre NMCLsRAF pruža fleksibilnost za oblike SRAF slobodnog oblika iz motora Inverse Lithography. On uzastopno primenjuje šablone, vrši čišćenje MRC sukoba i može generisati krivolinijske SRAF-ove na EUV maskama.

Visoki NA (numerički otvor blende) EUV je evolucija EUV litografije (od današnjih 0,33 NA do >= 0,5 NA) koja je potrebna za postizanje rezolucije uzorka za čvor napredne tehnologije. Kalibar je već pripremljen za High NA EUV. Calibreovi proizvodi za modeliranje i sintezu maski već podržavaju anamorfnu optiku od modeliranja preko OPC-a do MPC/MDP. Calibre EUV OPC sa više uzoraka je dokazano u proizvodnji, a optimizacija maski izvora kalibra (SMO) takođe uključuje napredne funkcije za EUV sa visokim NA-om.

Calibre nudi kompletan dizajn kroz proizvodni tok za EUV aplikacije. Calibreova EUV rešenja rješavaju izazove pružajući:

Potpuna podrška za modeliranje za EUV - Calibreova tehnologija modeliranja u potpunosti podržava sve EUV efekte, uključujući bljeskalicu, efekat crne ivice i efekte 3D maske.

Sveobuhvatni paket proizvoda - Svi modelirani efekti su uzeti u obzir u proizvodima Calibre kao što su Calibre PKSMO, Calibre pxOPC, Calibre nmOPC, Calibre nmSRAF i Calibre OPCverify OpcVerifi, koji se danas koriste u tapeoutu.

Hijerarhijska obrada podataka - Calibre EUV protok je dizajniran prema glavnoj hijerarhiji uz korišćenje punih globalnih EUV modela, omogućavajući brz i tačan OPC protok.

Krivolinijska obrada podataka - Rešenja za pripremu podataka Calibre Curvilinear mogu se omogućiti tokom celog protoka trake EUV maske.

Iskoristite AI za tačnost sledećeg čvora - Calibre EUV uključuje napredne tehnike mašinskog učenja za ubrzavanje sinteze maski, nudeći značajna poboljšanja tokom rada uz održavanje kvaliteta litografije.