Calibre IC Manufacturing Rešenja

Kompletno rešenje od kraja do kraja koje uključuje sve korake pripreme krivolinijskih podataka od ponovnog ciljanja do SRAF, OPC, MPC i MDP koje se bavi potrebama generisanja krivolinijskih maski specijalnih aplikacija (SiPH) i dizajna memorije.

Omogućavanje tehnologije za fotolitografske procese, uključujući ekstremno ultraljubičasto (EUV). Kalibrski računski litografski alati nude poboljšanu tačnost, brzinu i smanjene troškove vlasništva.

Omogućava konverziju formata podataka maski i zadatke verifikacije za izradu maski, uključujući najnovije formate maski sa više zraka u potpuno kompatibilnoj platformi Calibre.

Pruža optimizacije za pisce maski e-snopa. Nove mogućnosti korekcije i modeliranja poboljšavaju linearnost i ujednačenost kritičnih dimenzija maske za napredne čvorove.

dovoljava izazovima protoka proizvodnje i upravljanja korišćenjem sistema, istovremeno postižući brza vremena obrade uprkos sve većoj složenosti i količini podataka.

Poboljšava prinos proizvoda i obezbeđuje bržu rampu strukturiranjem i analizom ogromnih količina podataka, kreiranjem prediktivnih modela mašinskog učenja i generisanjem analize koja se može primeniti.

Calibre nudi kompletno rešenje za infrastrukturu protoka koje pruža vrhunsko vreme rada i doslednost kako bi se zadovoljili proizvodni zahtevi memorijskih uređaja i proizvoda sa nizovima koji se veoma ponavljaju.

Paket alata Calibre DFM uključuje analizu prinosa, mogućnost štampanja i alate za validaciju performansi za poboljšanje prinosa i optimizaciju IC dizajna.