Izdelek
all
Calibre EUV
Celovita podpora za reševanje edinstvenih izzivov EUV z visoko vsebnostjo RNA, kot sta anamorfna optika in 3D modeliranje mask za upoštevanje učinkov senčenja.
Calibre Computational Lithography
Nenasitno povpraševanje po integriranih vezjih (IC) še naprej povzroča manjše kritične dimenzije. Postopki fotolitografije, vključno z ekstremno ultravijoličnimi žarki (EUV), predstavljajo vedno večjo zapletenost in obseg podatkov. Naše računalniške litografske rešitve omogočajo stroškovno učinkovito omogočanje tehnologije.
Calibre Computational Lithography
Tako litografski izzivi kot računalniška zapletenost, povezana z naprednimi procesnimi vozlišči, ustvarjata potrebo po naprednih zmogljivostih v programski in strojni opremi za računalniško litografijo. Rešitev Calibre ponuja najboljšo natančnost, hitrost in stroške lastništva v svojem razredu.
Izdelek
all
Calibre nmOPC
Gosta optična bližina in korekcija procesa za omogočanje globoke submikronske proizvodnje.
Izdelek
all
Calibre nmSRAF
V zasnovo vstavi funkcije za pomoč pri podločljivosti (SRAF).
Izdelek
all
Calibre OPCverify
Zmogljiva simulacija s polnim čipom in litografska analiza.
Izdelek
all
Calibre WORKbench
GUI se uporablja za zagon najrazličnejših aplikacij in ogled rezultatov.
Izdelek
all
Kaliber NMModelFlow
Visoko razširljiv kalibracijski motor za optične, odporne in jedkane modele.
Izdelek
all
Calibre pxOPC
Hitra, inverzna korekcija optične bližine na osnovi slikovnih pik.
Izdelek
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Preprost uporabniški GUI za optimizacijo vira osvetlitve.