EUV ali Extreme Ultraviolet litografija je tehnologija, ki uporablja zelo majhno valovno dolžino svetlobe (13,5 nm) za tiskanje slik na silicijeve rezine. Potreben je, ker majhna valovna dolžina EUV, ki je manjša od velikosti funkcije, olajša tiskanje in je bistvenega pomena za doseganje ločljivosti vzorcev za vozlišča napredne proizvodne tehnologije, kot so 5 nm, 3 nm in več.

Calibre modelira vse edinstvene optične učinke EUV, kot je bliskavica, ki vključuje učinke kratkega in dolgega dosega. Calibre podpira generiranje dinamičnega modela za metodo razgradnje domene, ki omogoča neprekinjeno modeliranje azimutnega kota, aberacij, apodizacije in variacije vira po reži brez izgube natančnosti. Učinke 3D maske, kot sta učinek senčenja, ki ga povzroča debel absorber maske in osvetlitev zunaj osi, ki se spreminja po reži, je mogoče natančno kompenzirati. Calibre modelira tudi učinek črne obrobe, da odpravi njegov slikovni vpliv prek OPC. Kaliber je pripravljen tudi za High NA EUV. Calibre je opremljen z novimi funkcijami in funkcionalnostmi za podporo anamorfne optike od modeliranja do OPC.

SRAF so verjetno zahteva za vozlišče 5 nm in manj v litografiji EUV. SRAF-ji pozitivno vplivajo na naklon dnevnika slike (ILS), s čimer zmanjšajo hrapavost robov črte (LER) in povečajo globino ostrenja (DOF). Zaradi zunajosne osvetlitve EUV in različnih učinkov senčenja z delitvijo bodo morda potrebni asimetrični SRAF v vodoravni in navpični smeri, različni SRAF pa bodo morda potrebni na različnih lokacijah reže.

Calibrejeva rešitev SRAF lahko uporablja modele EUV za postavitev SRAF. Calibre pxOPC lahko ustvari asimetrične SRAF in se lahko prilagodi ciljnim DOF, ILS ali mešanici ciljev. Calibre nmSRAF lahko ustvari SRAF, ki temeljijo na pravilih, z uporabo rezultatov PxOPC kot predloge in lahko SRAF postavi asimetrično. Calibre NMCLsRAF zagotavlja prilagodljivost za oblike SRAF proste oblike iz motorja Inverse Lithography. Zaporedno uporablja predloge, izvaja čiščenje konfliktov MRC in lahko ustvari ukrivljene SRAF na maskah EUV.

Visoka NA (numerična odprtina) EUV je evolucija litografije EUV (od današnjih 0,33 NA do>= 0,5 NA), ki je potrebna za doseganje ločljivosti vzorcev za vozlišče napredne tehnologije. Calibre je že pripravljen za High NA EUV. Calibrejevi izdelki za modeliranje in sintezo mask že podpirajo anamorfno optiko od modeliranja preko OPC do MPC/MDP. Calibre EUV OPC z več vzorci je izdelava dokazana, optimizacija mask Calibre Source (SMO) pa vključuje tudi napredne funkcije za EUV z visoko vsebnostjo Na.

Calibre ponuja popolno zasnovo skozi proizvodni tok za aplikacije EUV. Calibrejeve rešitve EUV rešitve rešujejo izzive, saj zagotavljajo:

Popolna podpora za modeliranje za EUV - Calibrejeva tehnologija modeliranja v celoti podpira vse učinke EUV, vključno z bleščanjem, učinkom črne obrobe in učinki 3D maske.

Celovit paket izdelkov - Vsi modelirani učinki so upoštevani v izdelkih Calibre, kot so Calibre PxSMO, Calibre pxOPC, Calibre nmOPC, Calibre nmSRAF in Calibre OPCverify OpcVerify, ki se danes uporabljajo v tapeoutu.

Hierarhična obdelava podatkov - Calibre EUV tok je zasnovan v glavni hierarhiji, hkrati pa uporablja celotne globalne modele EUV, kar omogoča hiter in natančen pretok OPC.

Krivoliniarna obdelava podatkov - Solutions za pripravo podatkov Calibre Curvilinear je mogoče omogočiti v celotnem pretoku traku maske EUV.

Izkoristite AI za natančnost naslednjega vozlišča - Calibre EUV vključuje napredne tehnike strojnega učenja za pospešitev sinteze mask, ki ponujajo pomembne izboljšave v času izvajanja ob ohranjanju kakovosti litografije.