Produkt
all
Calibre EUV
Komplexná podpora riešenia jedinečných výziev EUV s vysokým obsahom NA, ako je anamorfická optika a 3D modelovanie masiek, aby sa zohľadnili efekty tieňovania.
Calibre Computational Lithography
Neuspokojivý dopyt po integrovaných obvodoch (IO) naďalej riadi menšie kritické rozmery. Fotolitografické procesy vrátane extrémneho ultrafialového žiarenia (EUV) predstavujú čoraz väčšiu zložitosť a objem údajov. Naše výpočtové litografické riešenia umožňujú nákladovo efektívnu technológiu.
Calibre Computational Lithography Produkty
Litografické výzvy aj výpočtová zložitosť spojená s pokročilými procesnými uzlami vytvárajú potrebu pokročilých schopností v softvéri a hardvéri výpočtovej litografie. Riešenie Calibre ponúka najlepšiu presnosť, rýchlosť a náklady na vlastníctvo vo svojej triede.
Produkt
all
Calibre nmOPC
Hustá optická blízkosť a korekcia procesu umožňujúca výrobu hlbokých submikrónov.
Produkt
all
Calibre nmSRAF
Vkladá funkcie pomocného rozlíšenia (SRAF) do návrhu.
Produkt
all
Calibre OPCverify
Výkonná simulácia s plným čipom a litografická analýza.
Produkt
all
Calibre WORKbench
GUI sa používa na spustenie širokej škály aplikácií a na zobrazenie výsledkov.
Produkt
all
Kaliber NMModelFlow
Vysoko škálovateľný kalibračný motor pre optické, odolné a leptané modely.
Produkt
all
Calibre pxOPC
Rýchla korekcia optickej vzdialenosti založená na inverzných pixeloch.
Produkt
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Jednoduché použitie GUI pre optimalizáciu zdroja osvetlenia.