Calibre EUV

EUV alebo Extreme Ultraviolet litografia je technológia, ktorá využíva veľmi malú vlnovú dĺžku svetla (13,5 nm) na tlač obrázkov na kremíkové dosky. Je to potrebné, pretože malá vlnová dĺžka EUV, ktorá je menšia ako veľkosť funkcie, uľahčuje tlač a je nevyhnutná na dosiahnutie rozlíšenia vzoru pre uzly pokročilých výrobných technológií, ako sú 5 nm, 3 nm a ďalšie.

Calibre modeluje všetky jedinečné optické efekty EUV, ako napríklad svetlice, ktoré zahŕňajú efekty krátkeho aj dlhého dosahu. Calibre podporuje generovanie dynamického modelu pre metódu rozkladu domény, aby umožnilo kontinuálne modelovanie azimutálneho uhla, aberácií, apodizácie a variácie zdroja v štrbinách bez straty presnosti. Efekty 3D masky, ako je efekt tieňovania spôsobený hrubým absorberom masky a osvetlenie mimo osi, ktoré sa mení naprieč štrbinou, je možné presne kompenzovať. Calibre tiež modeluje efekt čierneho okraja, aby eliminoval jeho zobrazovací vplyv prostredníctvom OPC. Kaliber je pripravený aj pre High NA EUV. Calibre je vybavený novými funkciami a funkciami na podporu anamorfickej optiky od modelovania cez OPC.

SRAF sú pravdepodobne požiadavkou na uzol 5 nm a nižšie v litografii EUV. SRAF majú pozitívny vplyv na sklon záznamu obrazu (ILS), čím znižujú drsnosť okrajov čiary (LER) a zvyšujú hĺbku zaostrenia (DOF). Vzhľadom na vonkajšie osvetlenie EUV a rôzne efekty tieňovania prostredníctvom rozdelenia môžu byť potrebné asymetrické SRAF v horizontálnom aj vertikálnom smere a rôzne SRAF môžu byť potrebné na rôznych miestach štrbiny.

Riešenie SRAF spoločnosti Calibre môže používať modely EUV na umiestnenie SRAF. Calibre pxOPC môže generovať asymetrické SRAF a môže byť upravený na cieľ DOF, ILS alebo kombináciu cieľov. Calibre nmSRAF môže generovať SRAF založené na pravidlách pomocou výsledkov PxOPC ako šablóny a môže umiestňovať SRAF asymetricky. Calibre nmCLSRAF poskytuje flexibilitu pre tvary SRAF voľného tvaru z motora Inverse Lithography. Postupne aplikuje šablóny, vykonáva čistenie konfliktov MRC a môže generovať krivočiarne SRAF na maskách EUV.

Vysoká NA (numerická apertúra) EUV je vývoj litografie EUV (od dnešných 0,33 NA do>= 0,5 NA), ktorý je potrebný na dosiahnutie rozlíšenia vzoru pre pokročilé technologické uzly. Kaliber je už pripravený pre High NA EUV. Produkty Calibre na modelovanie a syntézu masiek už podporujú anamorfickú optiku od modelovania cez OPC až po MPC/MDP. Calibre EUV OPC s viacerými vzormi je osvedčený vo výrobe a Calibre Source Mask Optimization (SMO) obsahuje aj pokročilé funkcie pre EUV s vysokým obsahom NA.

Calibre ponúka kompletný dizajn prostredníctvom výrobného toku pre aplikácie EUV. Riešenia EUV spoločnosti Calibre riešia výzvy tým, že poskytujú:

Úplná podpora modelovania pre EUV - Technológia modelovania spoločnosti Calibre plne podporuje všetky efekty EUV vrátane svetlice, efektu čierneho okraja a efektov 3D masky.

Komplexný balík produktov - Všetky modelované efekty sú zohľadnené v produktoch Calibre ako Calibre PxSMO, Calibre pxOPC, Calibre nmOPC, Calibre nmSRAF a Calibre OPCverify OpcVerify, ktoré sa dnes používajú v tapeout.

Hierarchické spracovanie údajov - Calibre EUV flow je navrhnutý podľa hlavnej hierarchie pri použití plných globálnych modelov EUV, čo umožňuje rýchly a presný tok OPC.

Krivočiarné spracovanie údajov - Solutions na prípravu údajov Calibre Curvilinear je možné povoliť v celom toku pásky EUV masky.

Využite AI pre presnosť nasledujúceho uzla - Calibre EUV obsahuje pokročilé techniky strojového učenia na urýchlenie syntézy masiek, ktoré ponúkajú významné vylepšenia prevádzky pri zachovaní kvality litografie.