Продукт
all
Calibre EUV
Комплексная поддержка в решении уникальных проблем EUV с высоким содержанием NA, таких как анаморфическая оптика и 3D-моделирование масок с учетом эффектов затенения.
Calibre Computational Lithography
Ненасытный спрос на интегральные схемы (ИС) продолжает приводить к уменьшению критических размеров. Процессы фотолитографии, включая экстремальное ультрафиолетовое излучение (EUV), представляют все большую сложность и объем данных. Наши решения для вычислительной литографии обеспечивают экономичное внедрение технологий.
Calibre Computational Lithography Продукты
Как
проблемы литографии, так и вычислительная сложность, связанная с усовершенствованными технологическими узлами, требуют расширенных возможностей программного и аппаратного обеспечения для вычислительной литографии. Решение Calibre обеспечивает лучшую в своем классе точность, скорость и стоимость владения.
Продукт
all
Calibre nmOPC
Плотная оптическая близость и коррекция технологического процесса для обеспечения глубокого субмикронного производства.
Продукт
all
Calibre nmSRAF
Вставляет вспомогательные функции с субразрешением (SRAF) в проект.
Продукт
all
Calibre OPCverify
Мощное полночиповое моделирование и литографический анализ.
Продукт
all
Calibre WORKbench
Графический интерфейс используется для запуска широкого спектра приложений и просмотра результатов.
Продукт
all
Калибр NM Model Flow
Масштабируемый калибровочный механизм для оптических, резистивных и травильных моделей.
Продукт
all
Calibre pxOPC
Быстрая оптическая коррекция приближения на основе обратных пикселей.
Продукт
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Простой в использовании графический интерфейс для оптимизации источника освещения.