Corecția procesului de mască (MPC) este bine stabilită ca un pas necesar în pregătirea datelor de mască (MDP) pentru fabricarea măștilor cu fascicul de electroni la noduri de tehnologie avansată de la 14 nm și nu numai. MPC folosește de obicei un model de dispersie a electronilor pentru a reprezenta expunerea la fasciculul e și un model de proces pentru a reprezenta efectele procesului de dezvoltare și gravare. Modelele sunt utilizate pentru a simula iterativ poziția marginilor elementelor de aspect și pentru a muta segmentele de margine pentru a maximiza precizia poziției marginii a măștii finalizate. Atribuirea selectivă a dozei poate fi utilizată împreună cu mișcarea marginilor pentru a maximiza simultan precizia ferestrei de proces și a poziției marginii.
Metodologia MPC pentru calibrarea modelului și corectarea aspectului a fost dezvoltată și optimizată pentru scriitorii de măști în formă de fascicul vectorial (VSB) care reprezintă tehnologia dominantă de litografie a măștilor utilizată astăzi pentru fabricarea avansată a măștilor. Scriitorii de mască cu mai multe fascicule (MBMW) au fost introduse recent și încep acum să fie utilizate în producția de fotomască de volum.
Aceste noi instrumente se bazează pe arhitecturi masive de scanare raster paralele care reduc semnificativ dependența timpului de scriere de complexitatea aspectului și se așteaptă să mărească și, în cele din urmă, să înlocuiască tehnologia VSB pentru măștile avansate ale nodurilor, pe măsură ce complexitatea aspectului continuă să crească [5] [6].
Deși este de așteptat ca metodele MPC existente dezvoltate pentru litografia VSB să poată fi adaptate cu ușurință la MBMW, este necesară o examinare riguroasă a corecției erorilor de mască pentru MBMW pentru a confirma pe deplin aplicabilitatea instrumentelor și metodelor actuale și pentru a identifica orice modificări care pot fi necesare pentru a obține performanța CD dorită a MBMW. În această lucrare vom prezenta rezultatele unui astfel de studiu și vom confirma disponibilitatea MPC pentru litografia cu măști cu mai multe fascicule.
