Calibre EUV

EUV, sau Extreme Ultraviolet, litografia este o tehnologie care folosește o lungime de undă foarte mică de lumină (13,5 nm) pentru a imprima imagini pe plachete de siliciu. Este necesar deoarece lungimea de undă mică a EUV, fiind mai mică decât dimensiunea caracteristicilor, face imprimarea mult mai ușoară și este esențială pentru obținerea rezoluției modelului pentru nodurile avansate de tehnologie de fabricație, cum ar fi 5nm, 3nm și nu numai.

Calibre modelează toate efectele optice EUV unice, cum ar fi flare, care include atât efecte cu rază scurtă, cât și cu rază lungă de acțiune. Calibre acceptă generarea dinamică a modelului pentru metoda de descompunere a domeniului pentru a permite modelarea continuă a unghiului azimutal, aberațiilor, apodizării și variația sursei de-a lungul fantei fără pierderea preciziei. Efectele de mască 3D, cum ar fi efectul de umbrire cauzat de absorbantul mască groasă și iluminarea în afara axei, care variază pe fantă, pot fi compensate cu precizie. Calibre modelează, de asemenea, efectul de margine neagră pentru a elimina impactul imagistic prin OPC. Calibrul este, de asemenea, pregătit pentru High NA EUV. Calibre este echipat cu noi caracteristici și funcționalități pentru susținerea opticii anamorfe de la modelare prin OPC.

SRAF-urile sunt probabil o cerință pentru nodul de 5 nm și mai jos în litografia EUV. SRAF-urile au un impact pozitiv asupra pantei jurnalului de imagine (ILS), reducând astfel rugozitatea marginii liniei (LER) și îmbunătățind adâncimea de focalizare (DOF). Datorită iluminării în afara axei a EUV și a efectelor variate de umbrire prin divizare, pot fi necesare SRAF-uri asimetrice atât în direcția orizontală, cât și în cea verticală și pot fi necesare SRAF-uri diferite în diferite locații ale fantei.

Soluția SRAF de la Calibre poate utiliza modele EUV pentru plasarea SRAF. Calibre PxOPC poate genera SRAF-uri asimetrice și poate fi ajustat pentru a viza DOF, ILS sau un amestec de obiective. Calibre NMSraf poate genera SRAF-uri bazate pe reguli folosind rezultatele PxoPC ca șablon și poate plasa SRAF-uri asimetric. Calibrul NMCLSraf oferă flexibilitate pentru formele SRAF de formă liberă de la motorul de litografie inversă. Aplică secvențial șabloane, efectuând curățare pentru conflictele MRC și poate genera SRAF-uri curbiliniare pe măștile EUV.

High NA (Diafragmă numerică) EUV este o evoluție a litografiei EUV (de la 0,33 NA de astăzi la> = 0,5 NA) care este necesară pentru obținerea rezoluției modelului pentru nodul de tehnologie avansată. Calibre este deja pregătit pentru High NA EUV. Produsele Calibre de modelare și sinteză de mască acceptă deja optica anamorfă de la modelare prin OPC și la MPC/MDP. Caliber EUV OPC cu modelare multiplă este dovedit de fabricație, iar Calibre Source Mask Optimization (SMO) include, de asemenea, caracteristici avansate pentru EUV cu NA ridicat.

Calibre oferă un design complet prin fluxul de fabricație pentru aplicații EUV. Soluțiile EUV ale Calibre abordează provocările oferind:

Suport complet de modelare pentru EUV - Tehnologia de modelare Calibre acceptă pe deplin toate efectele EUV, inclusiv flare, efect de margine neagră și efecte de mască 3D.

Suită cuprinzătoare de produse - Toate efectele modelate sunt luate în considerare în produsele Calibre, cum ar fi Calibre PxSMo, Calibre PxOPC, Calibre nMOPC, Calibre NMSraf și Calibre opcVerify, care sunt utilizate astăzi în casetă.

Prelucrarea ierarhică a datelor - Fluxul EUV Calibre este proiectat în funcție de ierarhia principală în timp ce utilizează modele EUV globale complete, permițând un flux OPC rapid și precis.

Prelucrarea datelor curbiliniare - Soluțiile Calibre Curvilinear Data Preparation Solutions pot fi activate în întregul flux de bandă de mască EUV.

Folosiți AI pentru precizia nodurilor următoare - Calibre EUV include tehnici avansate de învățare automată pentru a accelera sinteza măștilor, oferind îmbunătățiri semnificative în timpul rulării, menținând în același timp calitatea litografiei.