Produs
all
Calibre EUV
Suport cuprinzător care abordează provocările unice ale EUV cu ARN ridicat, cum ar fi optica anamorfă și modelarea 3D a mascii pentru a ține cont de efectele de umbrire.
Calibre Computational Lithography
Cererea insaciabilă de circuite integrate (IC) continuă să conducă la dimensiuni critice mai mici. Procesele de fotolitografie, inclusiv ultraviolete extreme (EUV), prezintă din ce în ce mai multă complexitate și volum de date. Soluțiile noastre de litografie computațională permit activarea tehnologiei rentabile.
Calibre Computational Lithography Produse
Atât provocările litografice, cât și complexitatea computațională asociată cu nodurile avansate de proces creează o nevoie de capacități avansate în software-ul și hardware-ul litografiei computaționale. Soluția Calibre oferă cea mai bună precizie, viteză și cost de proprietate din clasă.
Produs
all
Calibre nmOPC
Apropierea optică densă și corecția procesului pentru a permite fabricarea profundă a submicronilor.
Produs
all
Calibre nmSRAF
Inserează caracteristicile de asistență pentru sub-rezoluție (SRAF) într-un design.
Produs
all
Calibre OPCverify
Simulare puternică cu cip complet și analiză litografică.
Produs
all
Calibre WORKbench
GUI folosit pentru a lansa o mare varietate de aplicații și pentru a vizualiza rezultatele.
Produs
all
Calibru NMModelFlow
Motor de calibrare extrem de scalabil pentru modele optice, rezistente și gravare.
Produs
all
Calibre pxOPC
Co@@
recție optică de proximitate rapidă, inversă bazată pe pixeli.
Produs
all
Calibre pxSMO and RET Selection
GUI ușor de utilizat pentru optimizarea sursei de iluminare.