Calibre IC Manufacturing Soluții

O soluție completă end-to-end, care include toți pașii de pregătire a datelor curbiliniare, de la retargeting la SRAF, OPC, MPC și MDP, care abordează nevoile de generare a măștilor curbiliniare ale aplicațiilor de specialitate (SiPH) și proiectelor de memorie.

Activarea tehnologiei pentru procesele de fotolitografie, inclusiv ultraviolete extreme (EUV). Instrumentele de litografie computațională Calibre oferă precizie îmbunătățită, viteză și costuri reduse de proprietate.

Permite conversia formatelor de date de mască și sarcini de verificare pentru fabricarea măștilor, inclusiv cele mai recente formate de mască multi-fascicul într-o platformă Calibre complet compatibilă.

Oferă optimizări pentru scriitorii de mască e-beam. Noile capacități de corecție și modelare îmbunătățesc liniaritatea dimensiunii critice a măștii și uniformitatea pentru nodurile avansate.

Îndeplinește provocările legate de gestionarea fluxului de producție și a utilizării sistemului, obținând în același timp timpi de procesare rapizi, în ciuda complexității și volumelor de date în continuă creștere.

Îmbunătățește randamentul produsului și oferă o rampă mai rapidă prin structurarea și analizarea unor cantități masive de date, crearea de modele predictive de învățare automată și generarea de analize acționabile.

Calibre oferă o soluție completă de infrastructură de flux care oferă un timp de funcționare și consistență superioare pentru a satisface cerințele de fabricație ale dispozitivelor de memorie și produselor cu matrice extrem de repetitive.

Suita de instrumente Calibre DFM include analiza randamentului, imprimarea și instrumente de validare a performanței pentru a îmbunătăți randamentul și a optimiza proiectele IC.