Os gravadores de máscaras de feixe múltiplo (MBMW) permitem o uso de formas curvilíneas ideais para máscaras de litografia inversa (ILT), mas os formatos de layout atuais não são suficientes para representar projetos complexos de ILT de forma eficiente, desde a correção óptica de proximidade (OPC) até a criação de máscaras. Em 2019, iniciamos um grupo de trabalho de formato de dados para atender à necessidade de representação curvilínea de dados para MBMW. O grupo de trabalho Curvilinear Data Format tem membros de empresas EDA e fabricantes avançados de máscaras. Neste artigo, a necessidade de um novo formato de dados curvilíneo e os objetivos do nosso grupo de trabalho serão apresentados. Vamos discutir o progresso e o plano do grupo de trabalho. Uma versão deste artigo foi apresentada na conferência IEEE SPIE em 2021 e publicada nos anais da conferência.



