Soluções de fabricação de Calibre IC

Uma solução completa de ponta a ponta, incluindo todas as etapas de preparação de dados curvilíneos, desde o redirecionamento até SRAF, OPC, MPC e MDP, que atende às necessidades de geração de máscaras curvilíneas de aplicativos especializados (SiPH) e designs de memória.

Capacitação de tecnologia para processos de fotolitografia, incluindo ultravioleta extremo (EUV). As ferramentas de litografia computacional Calibre oferecem maior precisão, velocidade e redução do custo de propriedade.

Permite tarefas de conversão e verificação de formatos de dados de máscaras para fabricação de máscaras, incluindo os formatos de máscara multifeixe mais recentes em uma plataforma Calibre totalmente compatível.

Fornece otimizações para gravadores de máscaras de feixe eletrônico. Novos recursos de correção e modelagem melhoram a linearidade e a uniformidade da dimensão crítica da máscara para nós avançados.

Atende aos desafios do gerenciamento da taxa de transferência de produção e da utilização do sistema, ao mesmo tempo em que alcança tempos de resposta rápidos, apesar da complexidade e dos volumes de dados cada vez maiores.

Melhora o rendimento do produto e fornece um crescimento mais rápido estruturando e analisando grandes quantidades de dados, criando modelos preditivos de aprendizado de máquina e gerando análises acionáveis.

O Calibre oferece uma solução completa de infraestrutura de fluxo que oferece tempo de execução e consistência superiores para atender aos requisitos de fabricação de dispositivos de memória e produtos com matrizes altamente repetitivas.

O conjunto de ferramentas Calibre DFM inclui ferramentas de análise de rendimento, capacidade de impressão e validação de desempenho para aumentar o rendimento e otimizar os projetos de IC.