O gerenciamento de dados de engenharia para embalagens de IC (EDM-P) é um novo recurso opcional que fornece controle de revisão de check-in/check-out para os bancos de dados i3D e xPD. O EDM-P também gerencia o arquivo de “instantâneo” de integração, bem como todos os arquivos de origem IP de design usados para construir um design, como CSV, Verilog, Lef/Def, GDSII e OASIS. O uso do EDM-P permite que as equipes de design colaborem e rastreiem todas as informações e metadados das pastas e arquivos do Projeto ICP. Ele permite que a equipe de design verifique exatamente quais arquivos de origem foram usados no design antes de serem gravados para eliminar erros.

O que há de novo na embalagem de semicondutores 2504
2504 é uma versão abrangente que substitui as versões 2409 e 2409, atualização #3. 2504 inclui os seguintes novos recursos/capacidades no Innovator3D IC (i3D) e no Xpedition Package Designer (xPD).
O que há de novo na atualização 1 do Innovator3D IC 2504
A 2504 Update 1 é uma versão abrangente que substitui as versões básicas 2504 e 2409 e todas as suas atualizações subsequentes. Baixe a ficha técnica completa para saber mais sobre os recursos mais recentes desta atualização.

Innovator 3D IC 2504 Atualização 1
O cálculo da densidade do metal foi introduzido na versão de base 2504. Essa atualização inclui um cálculo de média em janela deslizante que é usado para prever a distorção do pacote.
Com esse recurso, você pode inspecionar a densidade média do metal na área de projeto para ver onde o metal deve ser adicionado ou removido para minimizar o risco de deformação do substrato.
Essa nova opção permite que o designer defina o tamanho e a grade da janela. O usuário também pode selecionar um modo de gradiente que pode ser usado com mapas de cores personalizados para obter uma cor de gradiente que é automaticamente interpolada entre as cores fixas em seu mapa de cores.
Isso faz parte do uso da planta baixa como uma matriz virtual que você pode instanciar hierarquicamente em outra planta baixa. Durante a importação de Lef/Def, agora você pode escolher gerar uma interface para fazer isso.
Agora temos a função “Adicionar novo design de matriz” para criar um VDM (modelo de matriz virtual) baseado em planta baixa. O novo VDM baseado em planta baixa é multisegmentado e tem um desempenho muito maior para matrizes grandes.
Lançado inicialmente com a versão 2504, exportamos o Interposer Verilog e o Lef Def para acionar as ferramentas IC Place & Route, como a Aprisa, com a finalidade de rotear intermediários de silício usando um PDK de fundição.
Nesta versão, demos um passo adiante ao fornecer também IC P&R Lef/Def/Verilog em nível de dispositivo.
Isso é valioso se você tiver uma ponte de silício ou um intermediário de silício em seu projeto e precisar roteá-la usando uma ferramenta IC P&R com um PDK fornecido pela fundição.
Para fazer isso, você deve acessar a definição do dispositivo silcon bridge/interposer e exportar LEF com definições de padstack e DEF com pinos como instâncias desses padstacks e Verilog com portas “Functional Signal” conectadas por redes internas e pinos representados como instâncias do módulo.
Nesta versão, adicionamos recursos e suporte de GUI para isso: Marque a caixa de seleção “Exportar como definições de padstack”.
Você pode fornecer uma lista de camadas que deseja ver na macro e controlar o nome do pino exportado.
Em 2504, lançamos a primeira etapa em nossa geração automatizada de planos de esboço.
Nesta versão, formamos grupos de pinos de forma inteligente e os conectamos ao lado ideal da matriz para escapar com o plano de esboço.
Arquitetura avançada de clustering
- Implementou uma abordagem sofisticada de agrupamento em duas fases
- Organização aprimorada de pinos por meio da análise de dois componentes (origem e destino)
- Mecanismos inteligentes de detecção e filtragem de valores atípicos
Isso fornece resultados precisos e lógicos de agrupamento de pinos, resultando em maior eficiência e menos ajustes manuais.
Cálculos do ponto inicial/final para planos de esboço:
Aprimoramentos significativos foram feitos na forma como as conexões são planejadas entre os componentes, tornando-as mais naturais e eficientes.
Alguns dos principais recursos para a geração do plano de esboço nesta versão incluem:
- Usando formas com base no padrão dos grupos de pinos em vez de apenas retângulos
- Tratamento de padrões irregulares de grupos de pinos
- Criação de pontos de conexão no ponto inicial e final do plano de esboço escapando para fora dos contornos do componente
Encontrando os melhores pontos de conexão
- Levando em conta a forma formada por grupos de pinos
- Localizar onde a forma se aproxima da borda do contorno do componente
- Selecionar a melhor localização que fornecerá o caminho mais curto possível
Lançamento do Innovator3D IC 2504
O i3d agora importa e exporta arquivos 3Dblox que contêm um conjunto completo de pacotes suportando todos os três estágios de dados (Blackbox, Lef/Def, GDSII). O i3D também pode criar e editar dados 3Dblox, permitindo que ele conduza o ecossistema de design, análise e verificação downstream. Ele tem um depurador embutido que pode identificar problemas de sintaxe do 3Dblox durante a leitura do 3Dblox, o que é muito útil ao lidar com arquivos 3Dblox de terceiros.
Para permitir que o planejamento e a análise preditivos forneçam resultados mais acionáveis, introduzimos vários novos recursos, como prototipagem de aviões terrestres e de potência e a capacidade de importar o Unified Power Format (UPF) para permitir análises térmicas e de SI/PI mais precisas. Como o teste é um grande desafio na integração heterogênea de vários chips, integramos a capacidade de vários moldes da Tessent para o planejamento de projeto para teste (DFT).
Agora, os projetistas podem analisar a densidade do metal em todo o dispositivo e na planta baixa, permitindo o desenvolvimento de padrões de colisão que minimizam a deformação e o estresse. A função relata a densidade em números, bem como em gráficos sobrepostos. Os projetistas podem ajustar a precisão para trocar exatidão versus velocidade.
Um dos principais objetivos da nova experiência do usuário introduzida em 2409 era aumentar a produtividade do designer. Como parte disso, estamos introduzindo comandos preditivos orientados por IA, que aprendem como um usuário projeta e prevê o comando que talvez queira usar em seguida.
À medida que os pacotes avançados ficam maiores, incorporando mais circuitos integrados específicos para aplicações (ASICs), chiplets e memória de alta largura de banda (HBM), a conectividade aumenta drasticamente, tornando mais difícil para os projetistas otimizarem essa conectividade para roteamento. A otimização da conectividade estava disponível na primeira versão do Innovator3D IC, mas logo ficou claro que os designs estavam superando suas capacidades. Isso levou ao design básico de um novo mecanismo de otimização que pode lidar com a complexidade emergente dos projetos, incluindo pares diferenciais.
A vista da planta baixa 3D existente é a maneira mais fácil de verificar o dispositivo e o empilhamento de camadas do seu projeto. Agora ficou mais fácil verificar visualmente a montagem do dispositivo com o novo controle de elevação do eixo z. Isso leva em consideração o tipo de componente, a forma da célula, as camadas de empilhamento, a orientação e a definição das pilhas de peças.
Versão 25.04 do Xpedition Package Designer
Melhoria contínua do desempenho da edição interativa em cenários específicos de desenvolvimento de software:
- Movendo traços de ângulos ímpares em redes grandes — até 77% mais rápido
- Rastreie o movimento do segmento de volta ao local original após empurrar, rastreie até 8 vezes mais rápido
- Barramento de rastreamento de arrasto que inclui enormes traços de proteção de rede — até 2 vezes mais rápido
- Eliminando um enorme rastro líquido — até 10 vezes mais rápido
- Edições interativas da rede de pedidos forçados em designs de embalagens grandes quando as liberações ativas estão ativadas — até 16 vezes mais rápidas
Muitas vezes, a análise detalhada, como a modelagem eletromagnética tridimensional (3DEM), só é necessária em uma área específica do projeto. A produção de todo o design é demorada e geralmente pode ser lenta. Esse novo recurso permite a exportação de áreas de design de layout especificadas que requerem simulação ou análise, tornando a troca de informações entre o layout e o HyperLynx mais eficiente.
Os projetistas agora podem filtrar os componentes eDTC dos arquivos ODB++ gerados usados para fabricação de substratos.
Baixe o lançamento
Nota: A seguir está um resumo condensado dos destaques do lançamento. Os clientes da Siemens devem consultar os destaques do lançamento em Centro de suporte para obter informações detalhadas sobre todos os novos recursos e aprimoramentos.