Atendendo aos requisitos de fabricação
Tecnologias avançadas de substrato requerem áreas complexas cheias de metal. Você terá diretrizes sobre eliminação de gases, inserção de vazios, balanceamento de metais e conexões térmicas de esfera/colisão. A interoperabilidade entre roteamento de sinal, ajuste de rota e operações de criação/edição de preenchimento de área totalmente metálica se torna obrigatória.
Execute dinamicamente com resultados de eliminação
Obtenha qualidade de embalagem de semicondutores graças à interoperabilidade entre operações de roteamento, ajuste e preenchimento de área. A desgaseificação graduada automática e interativa e o balanceamento de metais permitem equilibrar pares de camadas até limites especificados. Com um mecanismo de plano dinâmico de vários segmentos, os resultados estão sempre prontos para serem retirados, sem a necessidade de pós-processamento antes que você possa criar seus conjuntos de máscaras OASIS ou GDSII.

