Wielowiązkowe pisarki masek (MBMW) umożliwiają wykorzystanie idealnych kształtów krzywoliniowych do masek litografii odwrotnej (ILT), ale obecne formaty układów nie są wystarczające, aby skutecznie reprezentować złożone projekty ILT od optycznej korekcji zbliżeniowej (OPC) po tworzenie masek. W 2019 roku zainicjowaliśmy grupę roboczą dotyczącą formatu danych, aby zająć się potrzebą krzywoliniowej reprezentacji danych dla MBMW. Grupa robocza Curvilinear Data Format składa się z członków z firm EDA i zaawansowanych producentów masek. W artykule przedstawiono potrzebę nowego krzywoliniowego formatu danych oraz cele naszej grupy roboczej. Omówimy postępy i plan grupy roboczej. Wersja tego artykułu została zaprezentowana na konferencji IEEE SPIE w 2021 roku i opublikowana w materiałach konferencyjnych.



