Calibre IC Manufacturing Rozwiązania

Kompletne kompleksowe rozwiązanie obejmujące wszystkie etapy przygotowania danych krzywoliniowych od retargetowania do SRAF, OPC, MPC i MDP, które odpowiada potrzebom generowania krzywoliniowych masek w aplikacjach specjalnych (SiPH) i projektach pamięci.

Technologia umożliwiająca procesy fotolitografii, w tym ekstremalnego ultrafioletu (EUV). Narzędzia do litografii obliczeniowej Calibre oferują lepszą dokładność, szybkość i niższy koszt posiadania.

Umożliwia konwersję i weryfikację formatu danych masek do produkcji masek, w tym najnowszych formatów masek wielowiązkowych na w pełni kompatybilnej platformie Calibre.

Zapewnia optymalizację dla pisarzy masek wiązek elektronicznych. Nowe możliwości korekcji i modelowania poprawiają liniowość i jednorodność krytycznych wymiarów maski dla zaawansowanych węzłów.

Sprostają wyzwaniom związanym z przepustowością produkcji i zarządzaniem wykorzystaniem systemu, jednocześnie osiągając szybki czas realizacji pomimo coraz większej złożoności i ilości danych.

rawia wydajność produktu i zapewnia szybsze tempo dzięki strukturyzacji i analizowaniu ogromnych ilości danych, tworzeniu predykcyjnych modeli uczenia maszynowego i generowaniu praktycznych analiz.

Calibre oferuje kompletne rozwiązanie infrastruktury przepływu zapewniające doskonały czas działania i spójność w celu spełnienia wymagań produkcyjnych urządzeń pamięci i produktów z wysoce powtarzalnymi macierzami.

Pakiet narzędzi Calibre DFM zawiera narzędzia do analizy wydajności, możliwości drukowania i walidacji wydajności w celu zwiększenia wydajności i optymalizacji projektów układów scalonych.