Calibre EUV

EUV, of Extreme Ultraviolet, lithografie is een technologie die een zeer kleine golflengte van licht (13,5 nm) gebruikt om afbeeldingen op siliciumwafels af te drukken. Dit is nodig omdat de kleine golflengte van EUV, die kleiner is dan de functiegrootte, het afdrukken veel eenvoudiger maakt en essentieel is voor het bereiken van patroonresolutie voor knooppunten met geavanceerde productietechnologie, zoals 5 nm, 3 nm en meer.

Calibre modelleert alle unieke optische EUV-effecten, zoals flare, die zowel effecten op korte als op lange afstand omvat. Calibre ondersteunt dynamische modelgeneratie voor de domeindecompositiemethode om continue modellering van de azimuthale hoek, aberraties, apodisatie en de bronvariatie over de spleet mogelijk te maken zonder verlies van nauwkeurigheid. 3D-maskereffecten zoals het schaduweffect veroorzaakt door de dikke maskerabsorbeerder en de verlichting buiten de as, die over de spleet varieert, kunnen nauwkeurig worden gecompenseerd. Calibre modelleert ook het zwarte randeffect om het effect van de beeldvorming via OPC te elimineren. Calibre is ook voorbereid voor High NA EUV. Calibre is uitgerust met nieuwe functies en functionaliteiten ter ondersteuning van anamorfe optica, van modellering tot OPC.

SRAF's zijn waarschijnlijk een vereiste voor het 5nm-knooppunt en lager in EUV-lithografie. SRAF's hebben een positief effect op Image Log Slope (ILS), waardoor de lijnrandruwheid (LER) wordt verminderd en de scherpsteldiepte (DOF) wordt verbeterd. Vanwege de off-axis verlichting van EUV en variërende schaduweffecten door gesplitste, kunnen asymmetrische SRAF's nodig zijn in zowel horizontale als verticale richtingen, en kunnen verschillende SRAF's nodig zijn op verschillende spleetlocaties.

De SRAF-oplossing van Calibre kan EUV-modellen gebruiken voor SRAF-plaatsing. Calibre PxOpc kan asymmetrische SRAF's genereren en kan worden aangepast om DOF, ILS of een combinatie van doelstellingen te bereiken. Calibre NMSraf kan op regels gebaseerde SRAF's genereren met PxOPC-resultaten als sjabloon en kan SRAF's asymmetrisch plaatsen. Calibre NMcLSRAF biedt flexibiliteit voor SRAF-vormen in vrije vorm met behulp van de Inverse Lithography-engine. Het past achtereenvolgens sjablonen toe, voert een opruiming uit voor MRC-conflicten en kan kromlijnige SRAF's genereren op EUV-maskers.

High NA (Numerical Aperture) EUV is een evolutie van EUV-lithografie (van de huidige 0,33 NA naar >= 0,5 NA) die vereist is voor het bereiken van een patroonresolutie voor een knooppunt met geavanceerde technologie. Calibre is al voorbereid op High NA EUV. De modellerings- en maskersyntheseproducten van Calibre ondersteunen al anamorfe optica, van modellering via OPC tot MPC/MDP. Calibre EUV OPC met meerdere patronen is in de productie bewezen en Calibre Source Mask Optimization (SMO) bevat ook geavanceerde functies voor EUV met een hoog NA-gehalte.

Calibre biedt een compleet ontwerp tot en met de fabricage voor EUV-toepassingen. De EUV-oplossingen van Calibre gaan uitdagingen aan door te voorzien in:

Volledige modelondersteuning voor EUV - De modelleertechnologie van Calibre ondersteunt alle EUV-effecten volledig, inclusief flare, black border effect en 3D-maskereffecten.

Uitgebreide productsuite - Alle gemodelleerde effecten worden verwerkt in Calibre-producten zoals Calibre PxSMO, Calibre PxOpc, Calibre NMoPC, Calibre NMSraf en Calibre OpcVerify, die tegenwoordig in tapeout worden gebruikt.

Hiërarchische gegevensverwerking - De EUV-flow van Calibre is ontworpen volgens de hoofdriërarchie, waarbij gebruik wordt gemaakt van volledige wereldwijde EUV-modellen, waardoor een snelle en nauwkeurige OPC-flow mogelijk is.

Kromlijnige gegevensverwerking - Calibre Curvilinear Data Preparation Solutions kunnen worden ingeschakeld voor de volledige tapeout-flow van het EUV-masker.

Maak gebruik van AI voor de nauwkeurigheid van de volgende knooppunten - Calibre EUV bevat geavanceerde machine learning-technieken om de maskersynthese te versnellen, wat aanzienlijke runtime-verbeteringen biedt met behoud van de lithografische kwaliteit.