Product
all
Calibre EUV
Uitgebreide ondersteuning voor de unieke uitdagingen van EUV met een hoge NA, zoals anamorfe optica en 3D-modellering van maskers om rekening te houden met schaduweffecten.
Calibre Computationele Lithografie
De onverzadigbare vraag naar geïntegreerde schakelingen (IC's) blijft leiden tot kleinere kritieke dimensies. Fotolithografieprocessen, waaronder extreem ultraviolet (EUV), worden steeds complexer en worden steeds omvangrijker. Onze oplossingen voor computationele lithografie maken kosteneffectieve technologische ondersteuning mogelijk.
Computationele lithografieproducten van Calibre
Zowel de lithografische uitdagingen als de computationele complexiteit die gepaard gaat met geavanceerde procesknooppunten creëren een behoefte aan geavanceerde mogelijkheden op het gebied van software en hardware voor computationele lithografie. De Calibre-oplossing biedt de beste nauwkeurigheid, snelheid en gebruikskosten in zijn klasse.
Product
all
Calibre NMOPC
Dichte optische nabijheid en procescorrectie om productie van diepe submicron mogelijk te maken.
Product
all
Calibre NMsRaf
Voegt ondersteunende functies voor subresolutie (SRAF's) in een ontwerp in.
Product
all
Calibre OPCverify
Krachtige simulatie met volledige chip en lithografische analyse.
Product
all
Calibre WorkBench
GUI die wordt gebruikt om een grote verscheidenheid aan toepassingen te starten en resultaten te bekijken.
Product
all
Kaliber NMModelFlow
Zeer schaalbare kalibratie-engine voor optische, resistmodellen en etch-modellen.
Product
all
Calibre PxOpc
Snelle optische nabijheidscorrectie op basis van inverse pixels.
Product
all
Calibre PxSMo en RET Selection
Eenvoudig te gebruiken GUI voor optimalisatie van de verlichtingsbron.