Product
all
Calibre EUV
Uitgebreide ondersteuning bij het aanpakken van de unieke uitdagingen van EUV met een hoog NA-gehalte, zoals anamorfe optica en 3D-modellering van maskers om rekening te houden met schaduweffecten.
Calibre Computational Lithography
De onverzadigbare vraag naar geïntegreerde schakelingen (IC's) blijft leiden tot kleinere kritieke dimensies. Fotolithografieprocessen, waaronder extreem ultraviolet (EUV), worden steeds complexer en worden steeds omvangrijker. Onze computationele lithografieoplossingen maken kosteneffectieve technologische ondersteuning mogelijk.
Calibre Computational Lithography Producten
Zowel de lithografische uitdagingen als de computationele complexiteit die gepaard gaat met geavanceerde procesknooppunten creëren een behoefte aan geavanceerde mogelijkheden op het gebied van computationele lithografiesoftware en -hardware. De Calibre-oplossing biedt de beste nauwkeurigheid, snelheid en gebruikskosten in zijn klasse.
Product
all
Calibre nmOPC
Dichte optische nabijheid en procescorrectie om diepe submicronproductie mogelijk te maken.
Product
all
Calibre nmSRAF
Voegt ondersteunende functies voor subresolutie (SRAF's) in een ontwerp in.
Product
all
Calibre OPCverify
Krachtige simulatie met volledige chip en lithografische analyse.
Product
all
Calibre WORKbench
GUI wordt gebruikt om een breed scala aan toepassingen te starten en resultaten te bekijken.
Product
all
Kaliber NMModelFlow
Zeer schaalbare kalibratie-engine voor optische, resist-en etch-modellen.
Product
all
Calibre pxOPC
Snelle optische nabijheidscorrectie op basis van inverse pixels.
Product
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Eenvoudig te gebruiken GUI voor optimalisatie van de verlichtingsbron.