Pēdējā desmitgadē fotonikas tehnoloģija ir bijusi jauna optisko telekomunikāciju un optisko starpsavienojumu tehnoloģija mikroelektronikā. Tā rezultātā liela fotonikas dizaina metožu daudzveidība ir apvienojusies ar ļoti izaicinošām skalām un formām. Šādu izliektu un kritisku fotonikas formu ražošanai nepieciešamas uzlabotas izšķirtspējas uzlabošanas metodes (RET), tostarp apgrieztās litogrāfijas metodes (ILT) ar 193 nm iegremdēšanas litogrāfiju. Šajā rakstā mēs pētām vairāku fotonikas ierīču ražošanas problēmas, izmantojot uzlabotus ILT risinājumus, un SRAF ievietošanas ietekmi uz labas lito kvalitātes nodrošināšanu, tostarp malu izvietojuma kļūdu (EPE), PVband un līnijas malu raupjumu (LER). Mēs parādīsim, kā mūsu Calibre ILT risinājumi ļauj izgatavot vissarežģītākos fotonikas dizainus.
