Calibre NMCLSRAF는 곡선형 설계에서 ILT 가이드 템플릿 기반 SRAF 합성을 수행하여 정밀한 리소그래피 제어, 하위 해상도 보조 기능 (SRAF) 배치의 일관성, 마스크 제조 (MRC) 규정 준수, 집적 회로 (IC) 제조의 빠른 런타임을 보장해요.
지난 10년간 포토닉스 기술은 마이크로일렉트로닉스의 광 통신 및 광 인터커넥트에 떠오르는 기술이었어요.그 결과 매우 다양한 포토닉스 설계 방법론이 매우 어려운 스케일과 형태와 합쳐졌어요.이렇게 곡선적이고 중요한 포토닉스 모양을 제조하려면 193 nm 침지 리소그래피를 사용한 역 리소그래피 기술 (ILT) 을 포함한 고급 해상도 향상 기술 (RET) 이 필요해요.이 백서에서는 첨단 ILT 솔루션을 사용하는 여러 포토닉스 장치의 제조 문제와 SRAF 삽입이 우수한 리토 품질을 제공하는 데 미치는 영향을 조사했어요. 에지 배치 오류 (EPE), PV밴드, 라인 엣지 거칠기 (LER) 도 포함해서요.Calibre ILT 솔루션으로 어떻게 가장 난이도 높은 포토닉스 설계를 제조할 수 있는지 보여드릴게요.
템플릿 기반 접근 방식은 프로세스 창 변화 (PV 대역), 공통 초점 심도 (DOF) 및 이미지 로그 슬로프 (ILS) 측면에서 ILT SRAF와 동등한 리소그래피 품질을 제공하는 동시에 런타임 효율성을 크게 향상시켜 기본 ILT SRAF 합성보다 빠릅니다.
칼리버 NMCLSraf는 칼리버 ILT 엔진의 결과를 통합하여 SRAF 합성을 위한 DUV 및 EUV 리소그래피 프로세스별 기준의 요구 사항을 모두 충족하는 실행 가능한 곡선형 SRAF 솔루션을 제공해요.
맞춤형 플로우는 특수 설계의 곡선형 SRAF 삽입에 대한 추가 요구 사항, 예를 들어 특히 실리콘 포토닉스 애플리케이션의 SRAF 커버리지 및 갭 억제 요구 사항을 충족하도록 개발할 수 있어요.
칼리버 NMCLSraf는 칼리버 ILT 엔진에서 생성된 역 리소그래피 (ILT) 결과를 기반으로 하는 빠른 규칙 기반 곡선형 SRAF 삽입 솔루션이에요.
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칼리버 툴 스위트는 리소스 사용과 테이프아웃 일정을 최소화하면서 모든 프로세스 노드와 설계 스타일에서 정확하고 효율적이며 포괄적인 IC 검증 및 최적화를 제공해요.