멀티빔 마스크 라이터 (MBMW) 를 사용하면 ILT (역 리소그래피) 마스크에 이상적인 곡선 모양을 사용할 수 있지만, 현재 레이아웃 형식으로는 광학 근접 보정 (OPC) 부터 마스크 제작에 이르기까지 복잡한 ILT 설계를 효율적으로 표현하기에 충분하지 않아요.2019년에 우리는 MBMW의 곡선형 데이터 표현의 필요성을 해결하기 위해 데이터 형식 워킹 그룹을 시작했어요.곡선형 데이터 형식 워킹 그룹에는 EDA 회사하고 첨단 마스크 제조업체 출신들이 있어요.이 백서에서는 새로운 곡선형 데이터 형식의 필요성과 워킹 그룹의 목표를 소개할 거예요.워킹 그룹의 진행 상황과 계획에 대해 논의할 거예요.이 백서의 한 버전이 2021년 IEEE SPIE 컨퍼런스에서 발표되어 컨퍼런스 논문집에 발표됐어요.



