Calibre IC Manufacturing Solutions

リターゲティングからSRAF、OPC、MPC、MDPまでのすべての曲線データ準備ステップを含む完全なエンドツーエンドのソリューションで、特殊アプリケーション（SiPH）やメモリ設計の曲線マスク生成のニーズに対応します。

極紫外線（EUV）を含むフォトリソグラフィプロセスの技術支援。Calibre計算リソグラフィツールは、精度、速度が向上し、所有コストを削減します。

完全に互換性のあるCalibreプラットフォームで、最新のマルチビームマスクフォーマットを含むマスク製造のためのマスクデータ形式の変換と検証タスクを可能にします。

電子ビームマスクライターの最適化を提供します。新しい補正およびモデリング機能により、高度なノードのマスククリティカルディメンションの直線性と均一性が向上します。

複雑さとデータ量が増え続けているにもかかわらず、迅速なターンアラウンドタイムを実現しながら、生産スループットとシステム利用管理の課題に対応します。

膨大な量のデータを構造化して分析し、予測的な機械学習モデルを作成し、実用的な分析を生成することで、製品の収量を向上させ、より速い成長を実現します。

Calibreは、メモリデバイスや繰り返しが多い製品の製造要件を満たす、優れた実行時間と一貫性を提供する完全なフローインフラストラクチャソリューションを提供します。

Calibre DFMツールスイートには、歩留まりを高め、IC設計を最適化するための歩留まり分析、印刷適性、性能検証ツールが含まれています。