La Mask Process Correction (MPC) è una fase consolidata nella preparazione dei dati delle maschere (MDP) per la produzione di maschere a fascio di elettroni in nodi tecnologici avanzati da 14 nm e oltre. L'MPC utilizza in genere un modello a dispersione di elettroni per rappresentare l'esposizione ai raggi elettronici e un modello di processo per rappresentare gli effetti del processo di sviluppo e incisione. I modelli vengono utilizzati per simulare in modo iterativo la posizione dei bordi delle feature di layout e spostare i segmenti dei bordi per massimizzare la precisione della posizione dei bordi della maschera completata. L'assegnazione selettiva della dose può essere utilizzata insieme al movimento dei bordi per massimizzare contemporaneamente la precisione della finestra di processo e della posizione dei bordi.
La metodologia MPC per la calibrazione del modello e la correzione del layout è stata sviluppata e ottimizzata per gli scrittori di maschere a fascio vettoriale (VSB) che rappresentano la tecnologia di litografia di maschere dominante in uso oggi per la produzione avanzata di maschere. Gli scrittori per maschere multiraggio (MBMW) sono stati introdotti di recente e ora stanno iniziando a essere utilizzati nella produzione di fotomaschere in serie.
Questi nuovi strumenti si basano su architetture di scansione raster massicciamente parallele che riducono significativamente la dipendenza del tempo di scrittura dalla complessità del layout e dovrebbero aumentare ed eventualmente sostituire la tecnologia VSB per le maschere di nodi avanzate man mano che la complessità del layout continua a crescere [5] [6].
Sebbene si preveda che i metodi MPC esistenti sviluppati per la litografia VSB possano essere facilmente adattati a MBMW, è necessario un esame rigoroso della correzione degli errori della maschera per MBMW per confermare pienamente l'applicabilità degli strumenti e dei metodi attuali e per identificare eventuali modifiche che potrebbero essere necessarie per ottenere le prestazioni CD desiderate di MBMW. In questo articolo presenteremo i risultati di tale studio e confermeremo la disponibilità di MPC per la litografia con maschere multiraggio.
