Calibre MDP curvilinear

I requisiti di modellazione dei processi litografici di nuova generazione e la necessità di contenere i costi di produzione hanno spinto i litografi a esplorare i vantaggi delle maschere curvilinee. Diversi studi supportati dai risultati sperimentali hanno dimostrato il vantaggio litografico delle fotomaschere curvilinee rispetto alle approssimazioni rettilinee. La producibilità delle maschere curvilinee è stata limitata a causa dell'architettura degli scrittori a fascio variabile, che l'ha resa proibitiva sia dal punto di vista della preparazione dei dati delle maschere che della scrittura delle maschere. La disponibilità di scrittori per maschere multiraggio ha rimosso questi ostacoli e ha avvicinato molto l'introduzione delle maschere curvilinee alla realtà.

Legga Curve in avanti! La produzione di circuiti integrati si prepara per maschere curvilinee per saperne di più sui vantaggi delle maschere curvilinee.

La suite di strumenti Calibre Curvilinear MDP consente la continuazione senza interruzioni delle manipolazioni dei dati richieste per le Resolution Enhancement Techniques (RET), come l'inserimento delle Sub-Resolution Assist Features (SRAF) e la correzione del processo ottico (OPC) e la conversione del formato dei dati della maschera (MPC) nel formato dei dati della maschera in un'unica esecuzione.

Tradizionalmente gli autori di maschere multibeam hanno supportato i dati Piecewise-Linear (PWL) nei loro percorsi di dati. Recentemente, i fornitori di strumenti di scrittura di maschere multibeam hanno introdotto il supporto nativo multigono sulla nuova generazione di strumenti di scrittura di maschere multibeam. Lo scopo di multigon è rappresentare dati curvilinei con un formato curvo nativo per la compattazione delle dimensioni dei file nei flussi di maschere. Il numero di vertici utilizzati per rappresentare i dati multigoni è sostanzialmente inferiore rispetto ai vertici utilizzati per rappresentare i dati lineari a tratti, con conseguente riduzione delle dimensioni del file grazie all'utilizzo di curve native per i dati curvilinei.

L'immagine sotto mostra un esempio di PWL a sinistra e multigono a destra.

La soluzione Calibre Curvilinear MDP supporta flussi di frattura multiraggio basati su multigon ed è abilitata con i più recenti formati multibeam come MBW 3.0 di IMS e MBF 2.1 di NuFlare.

• Controllo della distanza multigono: Il controllo della distanza multigono è progettato per misurare la distanza tra le sezioni spline su livelli multigono, garantendo la conformità ai vincoli di progettazione.
• Controlli della profondità, della larghezza e del rapporto profondità larghezza multigono: il controllo Profondità e larghezza assicura che la larghezza minima di una forma multigono rientri nell'intervallo accettabile, in particolare se misurata in un determinato intervallo di profondità.
• Controllo angolare multigono: L'Angle Check valuta la geometria del multigono calcolando l'angolo della spline in ogni punto di interesse (POI) per un raggio specificato.
• Controllo della curvatura multigono: Il controllo della curvatura è progettato per valutare la levigatezza e la qualità di piegatura di ogni sezione spline di Bezier all'interno di un multigono calcolando il raggio minimo di curvatura lungo il suo contorno.

L'immagine sopra mostra esempi di controllo della distanza esterna (in alto a sinistra), controllo della distanza interna (in alto a destra), rilevamento dei picchi (in basso a sinistra) e controllo della profondità (in basso a destra).