Calibre IC Manufacturing Solutions

Una soluzione end-to-end completa che include tutte le fasi di preparazione dei dati curvilinei dal retargeting a SRAF, OPC, MPC e MDP che soddisfa le esigenze di generazione di maschere curvilinee per applicazioni speciali (SiPh) e progetti di memoria.

Abilitazione tecnologica per i processi di fotolitografia, compresi gli ultravioletti estremi (EUV). Gli strumenti di litografia computazionale Calibre offrono maggiore precisione, velocità e costi di proprietà ridotti.

Consente le attività di conversione e verifica del formato dei dati delle maschere per la fabbricazione di maschere, inclusi i più recenti formati di maschere multiraggio in una piattaforma Calibre completamente compatibile.

Fornisce ottimizzazioni per gli scrittori di maschere e-beam. Le nuove funzionalità di correzione e modellazione migliorano la linearità e l'uniformità delle dimensioni critiche della maschera per i nodi avanzati.

Soddisfa le sfide della produttività e della gestione dell'utilizzo del sistema, ottenendo tempi di consegna rapidi nonostante la complessità e i volumi di dati sempre crescenti.

Migliora la resa dei prodotti e fornisce una crescita più rapida strutturando e analizzando enormi quantità di dati, creando modelli predittivi di apprendimento automatico e generando analisi attuabili.

Calibre offre una soluzione completa di infrastruttura di flusso che offre runtime e coerenza superiori per soddisfare i requisiti di produzione di dispositivi di memoria e prodotti con array altamente ripetitivi.

La suite di strumenti Calibre DFM include strumenti di analisi della resa, stampabilità e convalida delle prestazioni per migliorare la resa e ottimizzare i progetti IC.