Az elmúlt évtizedben a fotonikai technológia a mikroelektronika optikai távközlésének és optikai összekapcsolásának feltörekvő technológiája volt. Ennek eredményeként a fotonikai tervezési módszerek nagy sokfélesége egyesült a nagyon kihívást jelentő skálákkal és formákkal. Az ilyen görbe és kritikus fotonikai formák előállításához fejlett felbontás-javítási technikákat (RET) kell használni, beleértve az inverz litográfiai technikákat (ILT) 193 nm-es merítési litográfiával. Ebben a cikkben több fotonikai eszköz gyártási kihívásait vizsgáljuk fejlett ILT megoldásokkal, valamint az SRAF beillesztésnek a jó lito-minőség biztosítására gyakorolt hatását, beleértve az élelhelyezési hibát (EPE), a PVsávot és a vonalél érdességét (LER). Bemutatjuk, hogyan teszik lehetővé Calibre ILT megoldásaink a legkihívást jelentő fotonikai tervek gyártását.
