Calibre IC Manufacturing Megoldások

jes körű megoldás, amely magában foglalja az összes görbe vonalú adatelőkészítési lépést az újracélzástól az SRAF-ig, OPC-ig, MPC-ig és MDP-ig, amely kielégíti a speciális alkalmazások (SiPH) és a memóriatervezések görbvonalas maszkgenerációs igényeit.

Technológia lehetővé teszi a fotolitográfiai folyamatokat, beleértve az extrém ultraibolya (EUV) is. A Calibre számítási litográfiai eszközök jobb pontosságot, sebességet és alacsonyabb tulajdonosi költségeket kínálnak.

Lehetővé teszi a maszkadatformátum átalakítását és ellenőrzését a maszkok gyártásához, beleértve a legújabb többsugaras maszkformátumokat egy teljesen kompatibilis Calibre platformon.

Optimalizálást biztosít az e-beam maszk írókhoz. Az új korrekciós és modellezési képességek javítják a maszk kritikus dimenziólinearitását és egységességét a fejlett csomópontok számára.

Megfelel a termelési teljesítmény és a rendszerkihasználás menedzsment kihívásainak, miközben gyors átfutási időket ér el az egyre növekvő összetettség és adatmennyiség ellenére.

Javítja a termékhozamot és gyorsabb lendületet biztosít a hatalmas mennyiségű adat strukturálásával és elemzésével, prediktív gépi tanulási modellek létrehozásával és végrehajtható elemzések generálásával.

Calibre egy teljes áramlási infrastruktúra megoldást kínál, amely kiváló futási időt és konzisztenciát biztosít, hogy megfeleljen a memóriaeszközök és a rendkívül ismétlődő tömbökkel rendelkező termékek gyártási követelményeinek.

A Calibre DFM eszközcsomag hozamelemzési, nyomtathatósági és teljesítményérvényesítési eszközöket tartalmaz a hozam növelése és az IC-tervek optimalizálása érdekében.