Proizvod
all
Calibre EUV
Sveobuhvatna podrška u rješavanju jedinstvenih izazova EUV-a s visokom RNA, poput anamorfne optike i 3D modeliranja maski kako bi se uzeli u obzir efekti sjenčanja.
Calibre Computational Lithography
Nezasitna potražnja za integriranim krugovima (IC) nastavlja pokretati manje kritične dimenzije. Procesi fotolitografije, uključujući ekstremno ultraljubičasto zračenje (EUV), predstavljaju sve veću složenost i količinu podataka. Naša računalna litografska rješenja omogućuju isplativo omogućavanje tehnologije.
Calibre Computational Lithography Proizvodi
I
litografski izazovi i računska složenost povezana s naprednim procesnim čvorovima stvaraju potrebu za naprednim mogućnostima softvera i hardvera računalne litografije. Rješenje Calibre nudi najbolju točnost, brzinu i troškove vlasništva u klasi.
Proizvod
all
Calibre nmOPC
Gusta optička blizina i korekcija procesa kako bi se omogućila duboka submikronska proizvodnja.
Proizvod
all
Calibre nmSRAF
Ubacuje pomoćne značajke podrezolucije (SRAF) u dizajn.
Proizvod
all
Calibre OPCverify
Snažna simulacija punog čipa i litografska analiza.
Proizvod
all
Calibre WORKbench
GUI se koristi za pokretanje širokog spektra aplikacija i za pregled rezultata.
Proizvod
all
Kalibar NMModelFlow
Izuzetno skalabilni kalibracijski motor za optičke, otporne i nagrizane modele.
Proizvod
all
Calibre pxOPC
Brza, inverzna korekcija optičke blizine temeljena na pikselima.
Proizvod
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Jednostavan za korištenje GUI za optimizaciju izvora osvjetljenja.