Calibre EUV

EUV, ili Extreme Ultraviolet, litografija je tehnologija koja koristi vrlo malu valnu duljinu svjetlosti (13,5 nm) za ispis slika na silikonskim pločama. Potreban je jer mala valna duljina EUV-a, koja je manja od veličine značajke, znatno olakšava ispis i ključna je za postizanje razlučivosti uzorka za čvorove napredne proizvodne tehnologije poput 5nm, 3nm i više.

Calibre modelira sve jedinstvene EUV optičke efekte kao što je bljesak, koji uključuje i kratke i dugotrajne efekte. Calibre podržava generiranje dinamičkog modela za metodu razgradnje domene kako bi se omogućilo kontinuirano modeliranje azimutalnog kuta, aberacija, apodizacije i varijacije izvora kroz prorez bez gubitka točnosti. Efekti 3D maske kao što je efekt sjenčanja uzrokovan debelim apsorberom maske i osvjetljenje izvan osi, koje varira po prorezu, mogu se točno kompenzirati. Calibre također modelira efekt crne granice kako bi eliminirao njegov utjecaj snimanja putem OPC-a. Kalibar je također pripremljen za High NA EUV. Calibre je opremljen novim značajkama i funkcionalnostima za podršku anamorfnoj optici od modeliranja do OPC-a.

SRAF-ovi su vjerojatno uvjet za 5nm čvor i niže u EUV litografiji. SRAF-ovi pozitivno utječu na nagib dnevnika slike (ILS) čime se smanjuje hrapavost ruba linije (LER) i povećava dubinu fokusa (DOF). Zbog EUV-ovog osvjetljenja izvan osi i različitih efekata sjenčanja kroz cijepanje, asimetrični SRAF-ovi mogu biti potrebni i u vodoravnom i okomitom smjeru, a različiti SRAF-ovi mogu biti potrebni na različitim mjestima proreza.

Calibreovo SRAF rješenje može koristiti EUV modele za postavljanje SRAF -a. Calibre pxOPC može generirati asimetrične SRAF-ove i može se prilagoditi ciljanom DOF, ILS ili mješavini ciljeva. Calibre nmSRAF može generirati SRAF-ove zasnovane na pravilima koristeći PxOPC rezultate kao predložak i može postaviti SRAF-ove asimetrično. Calibre NMCLsRAF pruža fleksibilnost za oblike SRAF slobodnog oblika iz motora Inverse Lithography. Uzastopno primjenjuje predloške, vrši čišćenje MRC sukoba i može generirati krivolinijske SRAF-ove na EUV maskama.

High NA (Numerički otvor blende) EUV je evolucija EUV litografije (od današnjih 0,33 NA do>= 0,5 NA) koja je potrebna za postizanje razlučivosti uzorka za čvor napredne tehnologije. Kalibar je već pripremljen za High NA EUV. Calibreovi proizvodi za modeliranje i sintezu maski već podržavaju anamorfnu optiku od modeliranja preko OPC-a do MPC/MDP. Calibre EUV OPC s više uzoraka dokazan je u proizvodnji, a Calibre Source Mask Optimization (SMO) također uključuje napredne značajke za EUV visoke Na.

Calibre nudi cjelovit dizajn kroz proizvodni tok za EUV aplikacije. Calibreova EUV rješenja rješavaju izazove pružajući:

Potpuna podrška za modeliranje EUV - Calibreova tehnologija modeliranja u potpunosti podržava sve EUV efekte, uključujući bljeskalicu, efekt crnog obruba i efekte 3D maske.

Sveobuhvatni paket proizvoda - Svi modelirani efekti zabilježeni su u proizvodima Calibre kao što su Calibre PxSMO, Calibre pxOPC, Calibre nmOPC, Calibre nmSRAF i Calibre OPCverify OpcVerify, koji se danas koriste u tapeoutu.

Hijerarhijska obrada podataka - Calibre EUV protok je dizajniran prema glavnoj hijerarhiji uz korištenje punih globalnih EUV modela, omogućujući brz i precizan OPC protok.

Krivolinijska obrada podataka - Solutions za pripremu podataka Calibre Curvilinear mogu se omogućiti tijekom cijelog protoka trake EUV maske.

Iskoristite AI za točnost sljedećeg čvora - Calibre EUV uključuje napredne tehnike strojnog učenja za ubrzavanje sinteze maski, nudeći značajna poboljšanja vremena rada uz održavanje kvalitete litografije.