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Calibre EUV
Support complet répondant aux défis uniques des EUV à haute NA tels que l'optique anamorphique et la modélisation 3D des masques pour prendre en compte les effets d'ombrage.
Calibre Computational Lithography
La demande insatiable de circuits intégrés (CI) continue d'entraîner des dimensions critiques plus petites. Les procédés de photolithographie, y compris les ultraviolets extrêmes (EUV), présentent de plus en plus de complexité et de volume de données. Nos solutions de lithographie computationnelle permettent une activation technologique rentable.
Produits de Calibre Computational Lithography
Les défis lithographiques et la complexité informatique associés aux nœuds de processus avancés créent un besoin de capacités avancées dans les logiciels et le matériel de lithographie computationnelle. La solution Calibre offre la meilleure précision, vitesse et coût de possession de sa catégorie.
