EUV, ou Extreme Ultraviolet, la lithographie est une technologie qui utilise une très petite longueur d'onde de lumière (13,5 nm) pour imprimer des images sur des tranches de silicium. C'est nécessaire parce que la petite longueur d'onde de l'EUV, étant inférieure à la taille de la fonction, rend l'impression beaucoup plus facile et est essentielle pour obtenir une résolution de motif pour les nœuds de technologie de fabrication avancée comme 5 nm, 3 nm et au-delà.

Les modèles de calibre sont tous des effets optiques EUV uniques tels que les fusées éclairantes, qui comprennent à la fois des effets à courte et à longue portée. Calibre prend en charge la génération de modèles dynamiques pour la méthode de décomposition de domaine afin de permettre la modélisation continue de l'angle azimutal, des aberrations, de l'apodisation et de la variation de source sur la fente sans perte de précision. Les effets de masque 3D tels que l'effet d'ombrage causé par l'absorbeur de masque épais et l'éclairage hors axe, qui varie sur la fente, peuvent être compensés avec précision. Calibre modélise également l'effet de bordure noire pour éliminer son impact d'imagerie grâce à l'OPC. Calibre est également préparé pour High NA EUV. Calibre est équipé de nouvelles fonctionnalités pour prendre en charge l'optique anamorphique, de la modélisation à l'OPC.

Les SRAF sont probablement une exigence pour le nœud 5 nm et moins en lithographie EUV. Les SRAF ont un impact positif sur la pente du journal de l'image (ILS), réduisant ainsi la rugosité des bords de ligne (LER) et améliorant la profondeur de mise au point (DAF). En raison de l'éclairage hors axe de l'EUV et des effets d'ombrage variables par fractionnement, des SRAF asymétriques peuvent être nécessaires dans les directions horizontale et verticale, et différents SRAF peuvent être nécessaires à différents emplacements de fente.

La solution SRAF de Calibre peut utiliser des modèles EUV pour le placement SRAF. Calibre pxOPC peut générer des SRAF asymétriques et peut être ajusté pour cibler les DOF, ILS ou un mélange d'objectifs. Calibre nmSRAF peut générer des SRAF basés sur des règles en utilisant les résultats PxOPC comme modèle et peut placer les SRAF de manière asymétrique. Le calibre NMCLsRAF offre une flexibilité pour les formes SRAF de forme libre à partir du moteur de lithographie inverse. Il applique séquentiellement des modèles, effectue un nettoyage pour les conflits MRC et peut générer des SRAF curvilignes sur les masques EUV.

L'EUV haute NA (ouverture numérique) est une évolution de la lithographie EUV (de 0,33 NA d'aujourd'hui à >= 0,5 NA) qui est nécessaire pour obtenir une résolution de motif pour le nœud de technologie avancée. Calibre est déjà préparé pour High NA EUV. Les produits de modélisation et de synthèse de masques de Calibre prennent déjà en charge l'optique anamorphique, de la modélisation à l'OPC et au MPC/MDP. Le calibre EUV OPC avec multi-motifs a fait ses preuves en fabrication et Calibre Source Mask Optimization (SMO) comprend également des fonctionnalités avancées pour les EUV à haute NA.

Calibre offre une conception complète à travers le flux de fabrication pour les applications EUV. Les solutions EUV de Calibre répondent aux défis en fournissant :

Prise en charge complète de la modélisation pour EUV - La technologie de modélisation de Calibre prend entièrement en charge tous les effets EUV, y compris les éclats, l'effet de bordure noire et les effets de masque 3D.

Suite de produits complète - Tous les effets modélisés sont pris en compte dans les produits Calibre tels que Calibre PxSMo, Calibre PxOPC, Calibre nmOPC, Calibre nmSRAF et Calibre OPCverify, qui sont utilisés aujourd'hui dans le tapeout.

Traitement hiérarchique des données - Le flux Calibre EUV est conçu selon la hiérarchie principale tout en utilisant des modèles EUV globaux complets, permettant un flux OPC rapide et précis.

Traitement curviligne des données - Les solutions Curvilinear Data Preparation de Calibre peuvent être activées sur tout le flux d'écoulement du masque EUV.

Tirez parti de l'IA pour la précision du nœud suivant - Calibre EUV comprend des techniques avancées d'apprentissage automatique pour accélérer la synthèse des masques, offrant des améliorations significatives de l'exécution tout en maintenant la qualité de la lithographie.