Viime vuosikymmenen aikana fotoniikkatekniikka on ollut kehittyvä tekniikka optiseen tietoliikenteeseen ja optisiin liitäntöihin mikroelektroniikassa. Tämän seurauksena suuri valikoima fotoniikan suunnittelumenetelmiä on sulautunut erittäin haastaviin mittakaavoihin ja muotoihin. Tällaisten kurvikkaiden ja kriittisten fotoniikkamuotojen valmistus vaatii edistyneitä resoluution parannustekniikoita (RET), mukaan lukien käänteiset litografiatekniikat (ILT) 193 nm: n upotuslitografialla. Tässä artikkelissa tutkimme useiden edistyneitä ILT-ratkaisuja käyttävien fotoniikkalaitteiden valmistushaasteita ja SRAF-lisäyksen vaikutusta hyvän litolaadun tuottamiseen, mukaan lukien reunan sijoitusvirhe (EPE), PVkaista ja viivan reunan karheus (LER). Esittelemme, kuinka Calibre ILT -ratkaisumme mahdollistavat haastavimpien fotoniikkamallien valmistuksen.
