Calibre EUV

EUV eli Extreme Ultraviolet -litografia on tekniikka, joka käyttää hyvin pientä valon aallonpituutta (13,5 nm) kuvien tulostamiseen piikiekkoihin. Sitä tarvitaan, koska EUV: n pieni aallonpituus, joka on pienempi kuin ominaisuuden koko, tekee tulostamisesta paljon helpompaa ja on välttämätöntä kuvion tarkkuuden saavuttamiseksi edistyneiden valmistustekniikan solmujen, kuten 5 nm, 3 nm ja sen jälkeen.

Calibre mallintaa kaikki ainutlaatuiset EUV-optiset tehosteet, kuten heijastus, joka sisältää sekä lyhyen että pitkän kantaman tehosteet. Calibre tukee dynaamista mallien luomista domeenin hajoamismenetelmälle, joka mahdollistaa atsimutaalikulman, poikkeamien, apodisaation ja lähteen vaihtelun jatkuvan mallinnuksen raon poikki tarkkuuden menettämättä. 3D-maskitehosteet, kuten paksun maskin vaimentimen aiheuttama varjostusvaikutus ja akselin ulkopuolinen valaistus, joka vaihtelee raon poikki, voidaan kompensoida tarkasti. Calibre mallintaa myös mustan reunavaikutuksen poistaakseen sen kuvantamisvaikutuksen OPC: n avulla. Kaliiperi on myös valmistettu High NA EUV: lle. Calibre on varustettu uusilla ominaisuuksilla ja toiminnoilla, jotka tukevat anamorfista optiikkaa mallinnuksesta OPC: n kautta.

SRAF: t ovat todennäköisesti vaatimus 5 nm: n solmulle ja sitä pienemmälle EUV-litografiassa. SRAF:illa on positiivinen vaikutus kuvan lokin kaltevuuteen (ILS), mikä vähentää viivan reunan karheutta (LER) ja parantaa tarkennussyvyyttä (DOF). EUV:n akselin ulkopuolisen valaistuksen ja jaon kautta tapahtuvien vaihtelevien varjostusvaikutusten vuoksi epäsymmetrisiä SRAF:ita voidaan tarvita sekä vaaka- että pystysuunnassa, ja erilaisia SRAF-arvoja voidaan tarvita eri rakojen kohdissa.

Caliberin SRAF-ratkaisu voi käyttää EUV-malleja SRAF-sijoitteluun. Calibre PxOPC voi luoda epäsymmetrisiä SRAF-tiedostoja, ja sitä voidaan säätää vastaamaan DOF-, ILS- tai tavoitteiden yhdistelmää. Calibre NMSraf voi luoda sääntöpohjaisia SRAF-tiedostoja käyttämällä PxOPC-tuloksia mallina ja voi sijoittaa SRAF-tiedostoja epäsymmetrisesti. Calibre NMCLSraf tarjoaa joustavuutta vapaamuotoisille SRAF-muodoille Inverse Lithography -moottorista. Se soveltaa malleja peräkkäin, suorittaa MRC-ristiriitojen puhdistuksen ja voi luoda kaarevia SRAF-tiedostoja EUV-maskeihin.

Korkea NA (numeerinen aukko) EUV on EUV-litografian kehitys (nykyisestä 0,33 NA: sta >= 0,5 NA), jota tarvitaan kuvion tarkkuuden saavuttamiseksi edistyneen teknologian solmulle. Calibre on jo valmis High NA EUV: lle. Caliberin mallinnus- ja maskisynteesituotteet tukevat jo anamorfista optiikkaa mallinnuksesta OPC: n kautta MPC/MDP: hen. Caliber EUV OPC, jossa on monikuviointi, on valmistettu todistetusti, ja Calibre Source Mask Optimization (SMO) sisältää myös edistyneitä ominaisuuksia korkean NA:n EUV:lle.

Calibre tarjoaa täydellisen suunnittelun läpi valmistusvirran EUV-sovelluksiin. Caliberin EUV-ratkaisut vastaavat haasteisiin tarjoamalla:

Täysi mallinnustuki EUV: lle - Caliberin mallinnustekniikka tukee täysin kaikkia EUV-tehosteita, mukaan lukien heijastus, musta reunaefekti ja 3D-maskitehosteet.

Kattava tuotepaketti - Kaikki mallinnetut tehosteet otetaan huomioon Calibre -tuotteissa, kuten Calibre PxSMo, Calibre PxOPC, Calibre nMOPC, Calibre nmOpc, Calibre NMSraf ja Calibre OPCVerify, joita käytetään nykyään nauhanauhassa.

Hierarkkinen tietojenkäsittely - Caliber EUV-virtaus on suunniteltu päähierarkian mukaisesti samalla kun käytetään täydellisiä globaaleja EUV-malleja, mikä mahdollistaa nopean ja tarkan OPC-virtauksen.

Kaareva tietojenkäsittely - Caliber Curvilinear Data Preparation Solutions voidaan ottaa käyttöön koko EUV-maskin nauhavirrassa.

Hyödynnä tekoälyä seuraavan solmun tarkkuuteen - Calibre EUV sisältää edistyneitä koneoppimistekniikoita maskin synteesin nopeuttamiseksi, mikä tarjoaa merkittäviä ajonaikaisia parannuksia säilyttäen samalla litografian laadun.