Tuote
all
Calibre EUV
Kattava tuki korkean NA:n EUV: n ainutlaatuisiin haasteisiin, kuten anamorfiseen optiikkaan ja maskin 3D-mallinnukseen varjostusvaikutusten huomioon ottamiseksi.
Calibre Computational Lithography
Integroitujen piirien (IC) tyydyttämätön kysyntä johtaa edelleen pienempiin kriittisiin ulottuvuuksiin. Fotolitografiaprosessit, mukaan lukien äärimmäinen ultravioletti (EUV), aiheuttavat yhä monimutkaisempaa ja datamäärää. Laskennalliset litografiaratkaisumme mahdollistavat kustannustehokkaan teknologian käyttöönoton.
Calibre Computational Lithography Tuotteet
Sekä litografiset haasteet että edistyneisiin prosessisolmuihin liittyvä laskennallinen monimutkaisuus luovat tarpeen edistyneille ominaisuuksille laskennallisissa litografiaohjelmistoissa ja -laitteistoissa. Calibre-ratkaisu tarjoaa luokkansa parhaan tarkkuuden, nopeuden ja omistuskustannusten.
Tuote
all
Calibre nmOPC
Tiheä optinen läheisyys ja prosessikorjaus syvän submikronin valmistuksen mahdollistamiseksi.
Tuote
all
Calibre nmSRAF
Lisää aliresoluution avustusominaisuudet (SRAF) malliin.
Tuote
all
Calibre OPCverify
Tehokas täyssirun simulointi ja litografinen analyysi.
Tuote
all
Calibre WORKbench
Käyttöliittymää käytettiin monenlaisten sovellusten käynnistämiseen ja tulosten katseluun.
Tuote
all
Kaliiperi NMModelFlow
Erittäin skaalautuva kalibrointimoottori optisiin, vastus- ja etch-malleihin.
Tuote
all
Calibre pxOPC
Nopea, käänteinen pikselipohjainen optinen läheisyyskorjaus.
Tuote
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Helppokäyttöinen käyttöliittymä valaistuslähteen optimointiin.