Calibre IC Manufacturing Ratkaisut

Täydellinen kokonaisratkaisu, joka sisältää kaikki kaarevien tietojen valmistelun vaiheet uudelleenkohdistuksesta SRAF-, OPC-, MPC- ja MDP:hen, joka vastaa erikoissovellusten (SiPH) ja muistisuunnittelujen kaarevien maskien luomisen tarpeisiin.

Teknologian mahdollistaminen fotolitografiaprosesseille, mukaan lukien äärimmäinen ultravioletti (EUV). Caliberin laskennalliset litografiatyökalut tarjoavat paremman tarkkuuden, nopeuden ja pienemmät omistuskustannukset.

Mahdollistaa maskin tietomuodon muuntamisen ja todentamistehtävät maskin valmistuksessa, mukaan lukien uusimmat monisäteiset maskimuodot täysin yhteensopivalla Calibre-alustalla.

Tarjoaa optimointeja e-beam -maskin kirjoittajille. Uudet korjaus- ja mallinnusominaisuudet parantavat maskin kriittisen ulottuvuuden lineaarisuutta ja yhtenäisyyttä edistyneissä solmuissa.

Vastaa tuotannon suorituskyvyn ja järjestelmän käytön hallinnan haasteisiin ja saavuttaa nopeat läpimenoajat yhä monimutkaisuudesta ja datamääristä huolimatta.

Parantaa tuotteiden tuottoa ja nopeuttaa kasvua jäsentämällä ja analysoimalla valtavia tietomääriä, luomalla ennakoivia koneoppimismalleja ja tuottamalla toiminnallisia analyysejä.

Calibre tarjoaa täydellisen virtausinfrastruktuuriratkaisun, joka tarjoaa erinomaisen käyttöajan ja johdonmukaisuuden, joka täyttää muistilaitteiden ja erittäin toistuvien taulukoiden valmistusvaatimukset.

Calibre DFM-työkalupaketti sisältää tuottoanalyysin, tulostettavuuden ja suorituskyvyn validointityökalut tuoton parantamiseksi ja IC-suunnittelun optimoimiseksi.