Producto
all
Calibre EUV
Soporte integral que aborda los desafíos únicos de los EUV de alto NA, como la óptica anamórfica y el modelado 3D de máscaras para tener en cuenta los efectos de sombreado.
Calibre Computational Lithography
La demanda insaciable de circuitos integrados (IC) continúa impulsando dimensiones críticas más pequeñas. Los procesos de fotolitografía, incluido el ultravioleta extremo (EUV), presentan cada vez más complejidad y volumen de datos. Nuestras soluciones de litografía computacional permiten habilitar tecnología rentable.
Calibre Computational Lithography Productos
Tanto los desafíos litográficos como la complejidad computacional asociada con los nodos de procesos avanzados crean la necesidad de capacidades avanzadas en software y hardware de litografía computacional. La solución Calibre ofrece la mejor precisión, velocidad y costo de propiedad de su clase.
Producto
all
Calibre nmOPC
Proximidad óptica densa y corrección del proceso para permitir una fabricación submicra profunda.
Producto
all
Calibre nmSRAF
Inserta funciones de asistencia de subresolución (SRAFs) en un diseño.
Producto
all
Calibre OPCverify
Potente simulación de chip completo y análisis litográfico.
Producto
all
Calibre WORKbench
GUI utilizada para lanzar una amplia variedad de aplicaciones y para ver resultados.
Producto
all
Calibre NMModelFlow
Motor de calibración altamente escalable para modelos ópticos, resistentes y grabados.
Producto
all
Calibre pxOPC
Corrección
de proximidad óptica rápida basada en píxeles inversos.
Producto
all
Calibre pxSMO and RET Selection
GUI fácil de usar para la optimización de la fuente de iluminación.