Las grabadoras de máscaras multihaz (MBMW) permiten utilizar formas curvilíneas ideales para las máscaras de litografía inversa (ILT), pero los formatos de diseño actuales no son suficientes para representar diseños de ILT complejos de forma eficiente, desde la corrección de proximidad óptica (OPC) hasta la creación de máscaras. En 2019, creamos un grupo de trabajo sobre formatos de datos para abordar la necesidad de representación de datos curvilínea para el BMW. El grupo de trabajo sobre el formato de datos curvilíneo cuenta con miembros de empresas de la EDA y fabricantes avanzados de mascarillas. En este documento, se presentará la necesidad de un nuevo formato de datos curvilíneo y los objetivos de nuestro grupo de trabajo. Discutiremos los avances y el plan del grupo de trabajo. Se presentó una versión de este artículo en la conferencia IEEE SPIE de 2021 y se publicó en las actas de la conferencia.



