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Calibre EUV
Soporte integral para abordar los desafíos únicos de la EUV con alto contenido de ADN, como la óptica anamórfica y el modelado 3D de máscaras para tener en cuenta los efectos de sombra.
Calibre Computational Lithography
La insaciable demanda de circuitos integrados (CI) sigue impulsando dimensiones críticas más pequeñas. Los procesos de fotolitografía, incluido el ultravioleta extremo (EUV), presentan cada vez más complejidad y volumen de datos. Nuestras soluciones de litografía computacional permiten una habilitación tecnológica rentable.
Productos de Lithography Calibre Computational
Tanto los desafíos litográficos como la complejidad computacional asociada a los nodos de proceso avanzados crean la necesidad de capacidades avanzadas en software y hardware de litografía computacional. La solución Calibre ofrece la mejor precisión, velocidad y coste de propiedad de su clase.
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Calibre NmPC
Proximidad óptica densa y corrección del proceso para permitir la fabricación submicrométrica profunda.
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Calibre NMSraf
Inserta funciones de asistencia de subresolución (SRAF) en un diseño.
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Calibre OPCVerify
Potente simulación completa y análisis litográfico.
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Calibre WorkBench
La interfaz gráfica de usuario utilizada para lanzar una amplia variedad de aplicaciones y ver los resultados.
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Calibre NMModelFlow
Motor de calibración altamente escalable para modelos ópticos, resistentes y de grabado.
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Calibre pxOPC
Corrección de proximidad óptica rápida basada en píxeles inversos.
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Calibre PxSMO y RET Selection
Interfaz gráfica fácil de usar para optimizar la fuente de iluminación.