Calibre IC Manufacturing Solutions

Una solución completa e integral que incluye todos los pasos de preparación de datos curvilíneos, desde el retargeting hasta el SRAF, el OPC, el MPC y el MDP, que aborda las necesidades de generación de máscaras curvilíneas de las aplicaciones especializadas (SiPH) y los diseños de memoria.

Habilitación tecnológica para los procesos de fotolitografía, incluido el ultravioleta extremo (EUV). Las herramientas de litografía computacional de Calibre ofrecen una mayor precisión, velocidad y un coste de propiedad reducido.

Permite las tareas de conversión y verificación del formato de datos de máscaras para la fabricación de máscaras, incluidos los últimos formatos de máscaras multihaz en una plataforma Calibre totalmente compatible.

Proporciona optimizaciones para los escritores de máscaras E-Beam. Las nuevas capacidades de corrección y modelado mejoran la linealidad y la uniformidad de las dimensiones críticas de los nodos avanzados.

Satisface los desafíos de la gestión del rendimiento de la producción y la utilización del sistema y, al mismo tiempo, logra tiempos de respuesta rápidos a pesar del aumento constante de la complejidad y los volúmenes de datos.

Mejora el rendimiento de los productos y proporciona un aumento más rápido al estructurar y analizar enormes cantidades de datos, crear modelos predictivos de aprendizaje automático y generar análisis procesables.

Calibre ofrece una solución completa de infraestructura de flujo que ofrece un tiempo de ejecución y una coherencia superiores para cumplir con los requisitos de fabricación de dispositivos y productos de memoria con matrices altamente repetitivas.

El conjunto de herramientas Calibre DFM incluye herramientas de análisis de rendimiento, imprimibilidad y validación del rendimiento para mejorar el rendimiento y optimizar los diseños de circuitos integrados.