La gestión de datos de ingeniería para el empaquetado de circuitos integrados (EDM-P) es una nueva función opcional que proporciona un control de revisión de entrada y salida para las bases de datos i3D y xPD. EDM-P también gestiona el archivo de «instantáneas» de integración y todos los archivos fuente IP de diseño utilizados para crear un diseño, como CSV, Verilog, Lef/Def, GDSII y OASIS. El uso de EDM-P permite a los equipos de diseño colaborar y rastrear toda la información y los metadatos de las carpetas y archivos del proyecto ICP. Permite al equipo de diseño comprobar exactamente qué archivos fuente se utilizaron en el diseño antes de pegarlo con cinta adhesiva para eliminar errores.

Qué hay de nuevo en el embalaje de semiconductores 2504
La 2504 es una versión completa que sustituye a las versiones 2409 y 2409, actualización #3. La 2504 incluye las siguientes funciones y capacidades nuevas en Innovator3D IC (i3D) y Xpedition Package Designer (xPD).
Qué hay de nuevo en la actualización 1 de Innovator3D IC 2504
La actualización 1 de 2504 es una versión completa que sustituye a las versiones base 2504 y 2409 y a todas sus actualizaciones posteriores. Descargue la hoja informativa completa para obtener más información sobre las funciones más recientes de esta actualización.

Innovator 3D IC 2504, actualización 1
El cálculo de la densidad metálica se introdujo en la versión base 2504. Esta actualización incluye un cálculo del promedio por ventana deslizante que se utiliza para predecir la deformación de los paquetes.
Con esta función, puede inspeccionar la densidad media del metal en el área de diseño para ver dónde se debe añadir o quitar el metal y minimizar el riesgo de que el sustrato se deforme.
Esta nueva opción permite al diseñador establecer el tamaño de la ventana y la cuadrícula. El usuario también puede seleccionar un modo de degradado que se pueda utilizar con mapas de colores personalizados para obtener un color degradado que se interpola automáticamente entre los colores fijos de su mapa de colores.
Esto forma parte del uso del plano de planta como un dado virtual que puede instanciar jerárquicamente en otro plano. Durante la importación de Lef/Def, ahora puede optar por generar una interfaz para hacerlo.
Ahora tenemos la función «Añadir un nuevo diseño de matriz» para crear un VDM (modelo de matriz virtual) basado en planos de planta. El nuevo VDM basado en planos de planta es multiproceso y tiene un rendimiento mucho mayor en matrices grandes.
Lanzado inicialmente con la versión 2504, exportamos Interposer Verilog y Lef Def para impulsar las herramientas IC Place & Route, como Aprisa, con el fin de enrutar los interponedores de silicio mediante un PDK de Foundry.
En esta versión hemos ido un paso más allá al ofrecer también IC P&R Lef/Def/Verilog de nivel de dispositivo.
Esto es útil si tiene un puente o un interpositor de silicio en su diseño y necesita enrutarlo mediante una herramienta de P&R de circuitos integrados con un PDK suministrado por la fundición.
Para ello, quiere ir a la definición de dispositivo interpositor/puente de silicio y exportar LEF con definiciones de padstack y DEF con pines como instancias de esos padstacks y Verilog con puertos de «señal funcional» conectados por redes internas y pines representados como instancias de módulos.
En esta versión, hemos añadido funciones y soporte de GUI para esto: marque la casilla «Exportar como definiciones de padstack».
Puede proporcionar una lista de las capas que quiere ver en la macro y controlar el nombre del alfiler exportado.
En 2504 publicamos el primer paso de nuestra generación automática de planos de bocetos.
En esta versión formamos grupos de alfileres de forma inteligente y los conectamos a la cara óptima del dado para escapar con el plano del boceto.
Arquitectura avanzada de clústeres
- Ha implementado un sofisticado enfoque de agrupamiento en dos fases
- Organización mejorada de los pines mediante el análisis de dos componentes (origen y destino)
- Mecanismos inteligentes de detección y filtrado de valores atípicos
Esto ofrece resultados de agrupamiento de pines precisos y lógicos, lo que mejora la eficacia y reduce los ajustes manuales.
Cálculos de puntos de inicio y final para planos esquemáticos:
Se han realizado importantes mejoras en la forma en que se planifican las conexiones entre los componentes, lo que las hace más naturales y eficientes.
Algunas funciones clave para la generación de planos de dibujo en esta versión incluyen:
- Usar formas basadas en el patrón de los grupos de alfileres en lugar de solo rectángulos
- Manejo de patrones irregulares de grupos de pines
- Creación de puntos de conexión en el punto inicial y final del croquis escapando fuera de los contornos de los componentes
Encontrar los mejores puntos de conexión
- Teniendo en cuenta la forma formada por grupos de alfileres
- Localizar el lugar donde la forma se acerca más al borde del contorno del componente
- Seleccionar la mejor ubicación que dé el camino más corto posible
Innovator3D IC versión 2504
i3D ahora importa y exporta archivos de 3Dblox que contienen un conjunto de paquetes completo que admite las tres etapas de datos (Blackbox, Lef/Def, GDSII). i3D también puede crear y editar datos de 3Dblox, lo que le permite impulsar el ecosistema posterior de diseño, análisis y verificación. Tiene un depurador integrado que puede identificar los problemas de sintaxis de 3Dblox durante la lectura de 3Dblox, lo que es muy útil cuando se trata de archivos de 3Dblox de terceros.
Para permitir la planificación y el análisis predictivos y ofrecer resultados más procesables, hemos introducido una serie de nuevas funciones, como la creación de prototipos de planos de potencia y tierra y la posibilidad de importar el formato de alimentación unificado (UPF) para permitir un análisis térmico y de SI/PI más precisos. Dado que las pruebas son un desafío importante en la integración heterogénea de varios chips, hemos integrado la capacidad de varios troqueles de Tessent para la planificación del diseño para las pruebas (DFT).
Los diseñadores ahora pueden analizar la densidad del metal en todos los dispositivos y planos, lo que permite desarrollar patrones de protuberancias que minimizan la deformación y la tensión. La función informa de la densidad en números y en gráficos superpuestos. Los diseñadores pueden ajustar la precisión para compensar la precisión con la velocidad.
Uno de los principales objetivos de la nueva experiencia de usuario introducida en 2409 era mejorar la productividad de los diseñadores. Como parte de eso, vamos a introducir los comandos predictivos basados en la IA, que aprenden cómo un usuario diseña y predice el comando que querrá usar a continuación.
A medida que los paquetes avanzados crecen e incorporan más circuitos integrados para aplicaciones específicas (ASIC), chiplets y memoria de gran ancho de banda (HBM), la conectividad aumenta drásticamente, lo que dificulta a los diseñadores optimizar esa conectividad para el enrutamiento. La optimización de la conectividad estaba disponible en la primera versión de Innovator3D IC, pero pronto quedó claro que los diseños superaban sus capacidades. Esto llevó al diseño básico de un nuevo motor de optimización que pudiera gestionar la creciente complejidad de los diseños, incluidos los pares diferenciales.
La vista 3D del plano de planta existente es la forma más sencilla de comprobar el apilamiento de dispositivos y capas de su diseño. Ahora es más fácil comprobar visualmente el ensamblaje del dispositivo con el nuevo control de elevación del eje Z. Esto tiene en cuenta el tipo de componente, la forma de la celda, las capas de apilamiento, la orientación y la definición de las pilas de piezas.
Versión 2504 de Xpedition Package Designer
Mejora continua del rendimiento de la edición interactiva en escenarios específicos de desarrollo de software:
- Mover trazas de ángulos impares en redes grandes: hasta un 77% más rápido
- Rastrea el movimiento del segmento hasta la ubicación original tras empujar, hasta 8 veces más rápido
- Arrastrando un bus de rastreo que incluye enormes trazas de protección de red, hasta 2 veces más rápido
- Pasando por alto el enorme rastreo neto, hasta 10 veces más rápido
- Ediciones interactivas de la red de pedidos forzados en el diseño de paquetes grandes cuando están habilitadas las liquidaciones activas, hasta 16 veces más rápido
A menudo, un análisis detallado, como el modelado electromagnético tridimensional (3DEM), solo es necesario en un área específica del diseño. La impresión de todo el diseño lleva mucho tiempo y, a menudo, puede ser lenta. Esta nueva función permite exportar áreas de diseño de maquetación específicas que requieren simulación o análisis, lo que hace que el intercambio de información entre el diseño y HyperLynx sea más eficaz.
Los diseñadores ahora pueden filtrar los componentes de eDTC de los archivos ODB++ generados que se utilizan para la fabricación de sustratos.
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Nota: El siguiente es un resumen resumido de lo más destacado de la publicación. Los clientes de Siemens deben consultar lo más destacado de la versión en Centro de soporte para obtener información detallada sobre todas las nuevas funciones y mejoras.