Η διόρθωση διαδικασίας μάσκας (MPC) είναι καθιερωμένη ως απαραίτητο βήμα στην προετοιμασία δεδομένων μάσκας (MDP) για την κατασκευή μάσκας δέσμης ηλεκτρονίων σε κόμβους προηγμένης τεχνολογίας από 14nm και μετά. Το MPC χρησιμοποιεί συνήθως ένα μοντέλο διασποράς ηλεκτρονίων για την αναπαράσταση της έκθεσης σε δέσμη ηλεκτρονικών και ένα μοντέλο διαδικασίας για την αναπαράσταση των αποτελεσμάτων της διαδικασίας ανάπτυξης και χάραξης. Τα μοντέλα χρησιμοποιούνται για την επαναληπτική προσομοίωση της θέσης των άκρων χαρακτηριστικών διάταξης και τη μετακίνηση τμημάτων άκρων για τη μεγιστοποίηση της ακρίβειας θέσης άκρων της ολοκληρωμένης μάσκας. Η επιλεκτική εκχώρηση δόσης μπορεί να χρησιμοποιηθεί σε συνδυασμό με την κίνηση των άκρων για ταυτόχρονη μεγιστοποίηση της ακρίβειας του παραθύρου διαδικασίας και της θέσης άκρης.
Η μεθοδολογία MPC για τη βαθμονόμηση μοντέλου και τη διόρθωση διάταξης έχει αναπτυχθεί και βελτιστοποιηθεί για τους συγγραφείς μάσκας σε σχήμα διανυσματικής δέσμης (VSB) που αντιπροσωπεύουν την κυρίαρχη τεχνολογία λιθογραφίας μάσκας που χρησιμοποιείται σήμερα για προηγμένη κατασκευή μάσκας. Οι συγγραφείς μάσκας πολλαπλών ακτίνων (MBMW) εισήχθησαν πρόσφατα και τώρα αρχίζουν να χρησιμοποιούνται στην παραγωγή φωτομάσκας όγκου.
Αυτά τα νέα εργαλεία βασίζονται σε μαζικά παράλληλες αρχιτεκτονικές σάρωσης ράστερ που μειώνουν σημαντικά την εξάρτηση του χρόνου εγγραφής από την πολυπλοκότητα της διάταξης και αναμένεται να αυξήσουν και τελικά να αντικαταστήσουν την τεχνολογία VSB για προηγμένες μάσκες κόμβων καθώς η πολυπλοκότητα της διάταξης συνεχίζει να αυξάνεται [5] [6].
Ενώ αναμένεται ότι οι υπάρχουσες μέθοδοι MPC που αναπτύχθηκαν για λιθογραφία VSB μπορούν εύκολα να προσαρμοστούν στο MBMW, είναι απαραίτητη μια αυστηρή εξέταση της διόρθωσης σφαλμάτων μάσκας για το MBMW για να επιβεβαιωθεί πλήρως η εφαρμογή των τρεχόντων εργαλείων και μεθόδων και να εντοπιστούν τυχόν τροποποιήσεις που μπορεί να απαιτούνται για την επίτευξη της επιθυμητής απόδοσης CD του MBMW. Σε αυτό το άρθρο θα παρουσιάσουμε τα αποτελέσματα μιας τέτοιας μελέτης και θα επιβεβαιώσουμε την ετοιμότητα του MPC για λιθογραφία μάσκας πολλαπλών ακτίνων.
