Calibre IC Manufacturing Λύσεις

Μια ολοκληρωμένη λύση από άκρο σε άκρο που περιλαμβάνει όλα τα βήματα προετοιμασίας καμπυλόγραμμων δεδομένων από την επαναπροσανατολισμό έως τα SRAF, OPC, MPC και MDP που καλύπτει τις ανάγκες δημιουργίας καμπυλόγραμμων μάσκων ειδικών εφαρμογών (SiPH) και σχεδίων μνήμης.

Τεχνολογική ενεργοποίηση για διαδικασίες φωτολιθογραφίας, συμπεριλαμβανομένης της ακραίας υπεριώδους ακτινοβολίας (EUV). Τα εργαλεία υπολογιστικής λιθογραφίας Calibre προσφέρουν βελτιωμένη ακρίβεια, ταχύτητα και μειωμένο κόστος ιδιοκτησίας.

Ενεργοποιεί εργασίες μετατροπής και επαλήθευσης μορφής δεδομένων μάσκας για την κατασκευή μάσκας, συμπεριλαμβανομένων των πιο πρόσφατων μορφών μάσκας πολλαπλών ακτίνων σε μια πλήρως συμβατή πλατφόρμα Calibre.

Παρέχει βελτιστοποιήσεις για συγγραφείς μάσκας e-beam. Οι νέες δυνατότητες διόρθωσης και μοντελοποίησης βελτιώνουν τη γραμμικότητα και την ομοιομορφία κρίσιμων διαστάσεων μάσκας για προηγμένους κόμβους.

Ανταποκρίνεται στις προκλήσεις της απόδοσης παραγωγής και της διαχείρισης αξιοποίησης του συστήματος επιτυγχάνοντας παράλληλα γρήγορους χρόνους ανάκαμψης παρά την ολοένα αυξανόμενη πολυπλοκότητα και τον όγκο δεδομένων.

Βελτιώνει την απόδοση του προϊόντος και παρέχει ταχύτερη βελτίωση με τη δομή και την ανάλυση τεράστιων ποσοτήτων δεδομένων, τη δημιουργία προγνωστικών μοντέλων μηχανικής μάθησης και τη δημιουργία ενεργών αναλύσεων.

Το Calibre προσφέρει μια ολοκληρωμένη λύση υποδομής ροής που παρέχει ανώτερο χρόνο εκτέλεσης και συνέπεια για την κάλυψη των απαιτήσεων κατασκευής συσκευών μνήμης και προϊόντων με εξαιρετικά επαναλαμβανόμενες συστοιχίες.

Η σουίτα εργαλείων Calibre DFM περιλαμβάνει εργαλεία ανάλυσης απόδοσης, εκτύπωσης και επικύρωσης απόδοσης για τη βελτίωση της απόδοσης και τη βελτιστοποίηση σχεδίων ολοκληρωμένων κυκλωμάτων.