Продукт
all
Calibre EUV
Цялостна поддръжка за справяне с уникалните предизвикателства на EUV с висока RNA, като анаморфна оптика и 3D моделиране на маски, за да се отчетат ефектите на засенчване.
Calibre Computational Lithography
Ненаситното търсене на интегрални схеми (ИС) продължава да води до по-малки критични размери. Фотолитографските процеси, включително екстремни ултравиолетови лъчи (EUV), представляват все по-голяма сложност и обем на данните. Нашите изчислителни литографски решения позволяват ефективна технология.
Calibre Computational Lithography Продукти
Както литографските предизвикателства, така и изчислителната сложност, свързана с усъвършенстваните процесни възли, създават нужда от усъвършенствани възможности в софтуера и хардуера за изчислителна литография. Решението Calibre предлага най-добрата в класа си точност, скорост и цена на собственост.
Продукт
all
Calibre nmOPC
Плътна оптична близост и корекция на процеса, за да се даде възможност за дълбоко производство на субмикрони.
Продукт
all
Calibre nmSRAF
Вмъква функции за подразделителна способност (SRAF) в дизайна.
Продукт
all
Calibre OPCverify
Мощна симулация с пълен чип и литографски анализ.
Продукт
all
Calibre WORKbench
GUI се използва за стартиране на голямо разнообразие от приложения и за преглед на резултатите.
Продукт
all
Калибър NMModelFlow
Високо мащабируем калибриращ двигател за оптични, резистентни и гравирани модели.
Продукт
all
Calibre pxOPC
Бърза, обратна пикселна оптична корекция на близост.
Продукт
all
Calibre pxSMO and RET Selection
Лесен за използване GUI за оптимизиране на източника на осветление.