EUV, или Extreme Ultraviolet, литографията е технология, която използва много малка дължина на вълната на светлината (13.5nm) за отпечатване на изображения върху силиконови вафли. Това е необходимо, тъй като малката дължина на вълната на EUV, която е по-малка от размера на функцията, прави печатането много по-лесно и е от съществено значение за постигане на разделителна способност на модела за възли на усъвършенствани производствени технологии като 5nm, 3nm и повече.

Calibre моделира всички уникални EUV оптични ефекти като отблясъци, които включват както ефекти на къси, така и на дълги разстояния. Calibre поддържа генериране на динамичен модел за метода на разлагане на домейна, за да позволи непрекъснато моделиране на азимутален ъгъл, аберации, аподизация и вариация на източника през процепа без загуба на точност. Ефектите на 3D маската като ефекта на засенчване, причинен от дебелия абсорбер на маската и осветлението извън оста, което варира в процепа, могат да бъдат точно компенсирани. Calibre също така моделира ефекта на черната граница, за да елиминира въздействието на изображенията чрез OPC. Калибър е подготвен и за High NA EUV. Calibre е оборудван с нови функции и функционалности за поддържане на анаморфна оптика от моделиране до OPC.

SRAF вероятно са изискване за 5nm възела и по-ниските в EUV литографията. SRAF оказват положително въздействие върху наклона на лога на изображението (ILS), като по този начин намаляват грапавостта на ръба на линията (LER) и подобряват дълбочината на фокуса (DOF). Поради осветлението извън оста на EUV и различните ефекти на засенчване чрез разделяне, може да са необходими асиметрични SRAF както в хоризонтална, така и във вертикална посока и могат да се изискват различни SRAF на различни места на процеп.

Решението SRAF на Calibre може да използва модели EUV за поставяне на SRAF. Calibre pxOPC може да генерира асиметрични SRAF и може да бъде коригиран за целеви DOF, ILS или комбинация от цели. Calibre nmSRAF може да генерира SRAF базирани на правила, използвайки резултатите от PxOPC като шаблон и може да поставя SRAF асиметрично. Calibre NMCLsRAF осигурява гъвкавост за SRAF форми със свободна форма от двигателя за обратна литография. Той последователно прилага шаблони, извършва почистване за MRC конфликти и може да генерира криволинейни SRAF върху EUV маски.

Висока NA (цифрова апертура) EUV е еволюция на EUV литографията (от днешната 0,33 NA до >= 0,5 NA), която е необходима за постигане на разделителна способност на шаблона за възел с напреднала технология. Калибър вече е подготвен за High NA EUV. Продуктите за моделиране и синтез на маски на Calibre вече поддържат анаморфна оптика от моделиране през OPC и до MPC/MDP. Calibre EUV OPC с мултимоделиране е доказано в производството, а оптимизацията на маската на източника на калибър (SMO) също включва усъвършенствани функции за EUV с висока степен на RNA.

Calibre предлага цялостен дизайн чрез производствен поток за приложения на EUV. EUV решенията на Calibre се справят с предизвикателствата, като предоставят:

Пълна поддръжка за моделиране за EUV - Технологията за моделиране на Calibre напълно поддържа всички EUV ефекти, включително изблясъци, ефект на черна граница и ефекти на 3D маска.

Изчерпателен продуктов пакет - Всички моделирани ефекти са отчетени в продуктите на Calibre като Calibre PxSMO, Calibre pxOPC, Calibre nmOPC, Calibre nmSRAF и Calibre OPCverify OpcVerify, които се използват в тапет днес.

Йерархична обработка на данни - Calibre EUV потокът е проектиран по основната йерархия, като същевременно използва пълни глобални EUV модели, позволявайки бърз и точен OPC поток.

Криволинейна обработка на данни - Решенията за подготовка на данни на Calibre Curvilinear могат да бъдат активирани в целия поток от лента на EUV маската.

Използвайте AI за точност на следващия възел - Calibre EUV включва усъвършенствани техники за машинно обучение за ускоряване на синтеза на маски, предлагайки значителни подобрения във времето на изпълнение, като същевременно поддържа качеството на литографията.