在過去十年，光電技術一直是微電子產業的光電信和光互連技術的新興技術。因此，大量多樣的光子設計方法與非常具挑戰性的尺寸和形狀融合了。製造這樣曲線和關鍵光子形狀需要先進的解析度增強技術 (RET)，包括 193 nm 浸入式平版印刷技術（ILT）。在本文中，我們研究使用先進的 ILT 解決方案數個光子設備的製造挑戰，以及 SRAF 插入對提供良好的光子質量的影響，包括邊緣放置誤差（EPE），PVBand 和線邊粗糙度（LER）。我們將展示我們的 Calibre ILT 解決方案如何使製造最具挑戰性的光子設計。
以模板為基礎的方法提供相當於 ILT SRAF 的平版畫品質，在處理視窗變化 (PV 頻段)、共同焦點深度 (DOF) 和影像日誌斜率 (ILS) 方面，同時顯著提高執行時效率，比原生 ILT SRAF 合成更快。
Calibre NMCLSRAF 結合了來自 Calibre ILT 引擎的結果，提供可行的曲線 SRAF 解決方案，符合 DUV 和 EUV 光刻製程特定 SRAF 合成標準的要求。
可以開發自訂流程，以滿足特殊設計中曲線 SRAF 插入的其他要求，例如專門針對矽光子應用的 SRAF 覆蓋和間隙抑制要求。
Calibre NMCLSraf 是基於從 Calibre ILT 引擎生成的反向平版圖 (ILT) 結果的快速，基於規則為基礎的曲線 SRAF 插入解決方案。
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