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為什麼要選擇「Calibre NMCLBias」?

隨著先進的平版印刷技術突破傳統曼哈頓幾何圖形,遮罩和晶圓現實現已不再符合理想的直線設計意圖。Calibre NMCLBias 具有圓角、增加的樣式複雜度,以及多光束遮罩編寫器啟用的曲線遮罩流程的興起,協助業界轉向下一代流程更準確、可製造的模式表現法。

主要功能

弧線設計的 OPC 前偏差/重新定位

Calibre NMCLBias 是生產硬化的 Calibre NMBias 工具的曲線版本,已被主要鑄造廠使用 12 多年。Calibre NMCLBias 是一種可擴展且高效率的重新定位工具,可為曲線設計提供偏置解決方案。

準確性和質量

優質曲線性前 OPC 重定位

Calibre NMCLBias 為曲線設計提供以規則為基礎的偏差/重新定位,具有改進分類的邊緣篩選功能、增強的邊緣移動引擎,以及轉角逐漸平滑化片段。

身穿黑色襯衫的人站在白色牆壁前,手持深色物品,背景模糊。
可擴充且高效率

出色的執行時效能

Calibre NMCLbias 重新定位引擎提供可擴充且高效率的 OPC 前重新定位和偏差解決方案,以滿足客戶執行階段需求。

專注於藍色襯衫的專業人員分析數據圖表,具有強烈的集中力,牆上可見陰影
可用性和靈活性

易於使用的重新定位引擎

Calibre NMCLBias 易於使用且靈活,允許用戶定義的片段控制,基於標籤的偏差,偏差規則表規格規格以及偏差規則的插值等。

身穿黑色襯衫的人站在白色牆壁前,手持深色物品,背景模糊。

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機芯片設計與製造

Calibre 工具套件可在所有流程節點和設計樣式中提供準確、高效、全面的 IC 驗證和最佳化,同時最大限度地減少資源使用量和磁帶出排程。