在光學接近校正 (OPC) 中產生曲線遮罩形狀,而不是純矩形形狀,作為改善晶圓平版印刷性能的方法變得越來越逼真。使用曲線形狀的主要好處是改進的製程視窗,這意味著晶圓影像在曝光期間對劑量和焦點條件的敏感度較低。隨著最新高性能叢集的運算能力增加,以及多光束遮罩寫器 (MBMW) 的可用性,這些晶圓平版平版畫優勢可以在目前正在開發的技術節點中實現。
在生產中使用曲線形狀的口罩的一個非常實用的挑戰是可靠的遮罩規則檢查 (MRC)。OPC 引擎不僅需要產生可製造的形狀,而且遮罩廠也需要一種驗證傳入的遮罩資料是否可製造的方法。對於曲線遮色片形狀,這比矩形遮色片形狀更具挑戰性,因為簡單的寬度和空間檢查不再足夠。
在本文中,我們討論一組全面的 MRC 限制,並展示 MRC 引擎在曲線輸入數據上運行的有效性。此處使用的 Rules 包括曝光特徵的最小寬度、曝光特徵之間的最小空間、凸形和凹形形狀的最小曲率,以及曝光特徵的最小面積。
