Calibre nmCLBIAS

为什么 Calibre Calibre NMCLBIAS？

随着先进的光刻技术超越传统的曼哈顿几何形状，掩膜和晶圆的现实已不再符合理想的直线设计意图。Calibre Calibre NMCLBIAS 具有圆角、图案复杂度不断增加以及多光束掩模刻机推动的曲线掩模流的上升，有助于支持该行业向更准确、更可制造的下一代工艺的模式表示转变。

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